金属窒化物セラミックスの薄膜成長過程の第一原理シミュレーション
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1997-10-01
著者
-
広瀬 喜久治
大阪大学
-
後藤 英和
大阪大学
-
森 勇藏
大阪大学
-
杉山 和久
大阪大学
-
稲垣 耕司
大阪大学
-
遠藤 勝義
大阪大学大学院工学研究科
-
遠藤 勝義
大阪大学
-
杉山 和久
高知高専
-
後藤 英和
阪大院工
-
中野 雅美
大阪大学大学院工学研究科
関連論文
- 水酸基による金属表面原子の除去加工の第一原理分子動力学シミュレーション
- 超純水のみによる電気化学的加工法の銅ダマシン配線形成プロセスへの応用
- 超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面--高品質グラフェン作製への応用 (第29回表面科学学術講演会特集号(3))
- 超純水のみによる電気化学的加工法の研究 : 陰極Al(001)表面における除去加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション
- プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 二枚の平面ミラーを用いたX線干渉計の開発
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報) : 超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究
- 超純水・高速せん断流によるSi基板洗浄法の研究 : Si基板表面のDOP汚染の洗浄効果
- EEM (Elastic Emission Machining) およびプラズマ CVM (Chemical Vaporization Machining) による高精度X線全反射ミラーの開発
- 硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価
- EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第2報) : 加工表面の原子像観察と構造評価
- EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第1報) : 半導体表面の超平坦化のための超清浄EEMシステムの開発
- 完全表面の創成をめざして : 大阪大学・超精密加工研究拠点(精密工学の最前線)
- 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 回転電極とパイプ電極を併用した数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化
- 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化
- 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 加工装置の開発と基本的加工特性の取得
- レーザ誘起蛍光分光法による大気圧・高周波CF_4プラズマ中のラジカル密度の空間分布計測
- モノシランとオゾンとの反応を用いた常圧光CVD法による酸化シリコン薄膜の形成
- 光散乱法を用いたナノパーティクル測定機の開発 : 標準ナノ粒子を用いた検出精度と洗浄効果の評価
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第1報) : Si基板表面のCu汚染の洗浄効果
- 原子論的生産技術における電子状態シミュレーション
- ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のマイクロラフネス測定法
- 光散乱法を用いたSiウエハ表面のウエット洗浄によるナノパーティクル評価
- ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のナノ欠陥計測
- 走査型トンネル顕微鏡による水素化アモルファスシリコン表面の原子像観察
- 走査型トンネル顕微鏡による水素化アモルファスシリコン表面の構造解析
- SMTによる水素終端化Si(001)表面の昇温過程の観察
- 走査型トンネル顕微鏡による水素化アモルファスシリコン表面の構造解析
- STMによる湿式洗浄Si(110)表面の昇温過程の観察
- STMによる溶液処理水素終端化Si(001)表面の原子構造観察
- STMによる溶液処理水素終端化Si(001)表面の観察
- STMによる水素終端化Si(001)ウェーハ表面の観察
- 超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面 : 高品質グラフェン作製への応用
- STM/STSによるSiウェーハ表面の金属汚染物の極微量元素分析
- STM/STSによる金属吸着Si(001)表面の観察
- STM/STSによるSiウェーハ表面の金属原子の観察
- STM/STSによるSiウェーハ表面の金属汚染物の極微量元素分析
- 傾斜角積分法による超精密形状計測法の開発
- 傾斜角積分法による形状測定(第2報)-EEMよる修正加工前後の形状測定-
- 傾斜角積分法による形状測定(第1報)-製作した自動測定装置の性能-
- プラズマCVMによる集積型a-Si太陽電池の高速パターニングに関する研究
- 非経験的分子軌道法を用いた窒化物セラミックス薄膜形成における窒素分子と金属との反応解析
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報) : 超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究
- 懸架導体粒子が介在する極間における液中放電現象 : 小鋼球による浮遊加工くずの模擬化
- 28aPS-29 第一原理計算による色素増感型太陽電池の新色素設計手法のためのプログラム開発(領域11ポスターセッション,領域11,統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理)
- 28aPS-21 Impulse-Response法によるナノ構造体の電子輸送シミュレーションIV(領域11ポスターセッション,領域11,統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理)
- 29pPSB-34 第一原理に基づくフラーレンダイマーの伝導計算(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 30aPS-32 実空間差分法に基づく時間依存密度汎関数理論を用いた時間発展計算プログラムの開発と応用(30aPS 領域11ポスターセッション,領域11(統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理))
- 23aPS-36 実空間差分法によるセルフコンシステント場における電子状態の時間発展計算(23aPS 領域11ポスターセッション,領域11(統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理))
- 23aPS-33 Impulse-Response法によるナノ構造体の電子輸送シミュレーションIII(23aPS 領域11ポスターセッション,領域11(統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理))
- 25pPSA-27 Impulse-Response法によるナノ構造体の電子輸送シミュレーションII(ポスターセッション,領域11,統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理)
- 25pPSA-38 時間依存密度汎関数理論による励起された電子状態の第一原理計算(ポスターセッション,領域11,統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理)
- 24aPS-25 Impulse-Response法によるナノ構造体の電子輸送シミュレーション(領域11ポスターセッション,領域11,統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理)
- 21aPS-20 経路積分繰り込み群法による長距離反発力をもつ多体電子系の取扱い(領域8ポスターセッション(低温),領域8,強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など)
- 半無限電極に挟まれたナノジャンクションの第一原理電子状態計算法
- エキシマレーザによる基板表面凝集相の光化学反応
- 大気圧プラズマインピーダンス測定(第2報) : 測定装置内電磁界解析による測定原理の検証
- 大気圧プラズマインピーダンス測定(第1報) -測定原理, 測定結果, およびその測定精度について-
- 大気圧・高周波プラズマの特性-励起周波数, 圧力の違い-
- 大気圧RFプラズマの特性
- 機械工学年鑑(1997年) : 加工学・加工機器
- 光ファイバからの点光源回折球面波を計測の絶対基準とした位相シフト光干渉計の開発
- 光ファイバからの点光源回折球面波を計測の絶対基準とした位相シフト光干渉計の開発
- レーザ光散乱法によるSiウエハ表面上の超微小欠陥計測
- 光散乱法を用いたシリコンウエハ面の洗浄によるナノ構造評価
- レーザ光散乱法によるSiウエハ付着超微粒子計測
- レーザー光散乱法によるSiウエハ表面上のナノパーティクルの計測
- 光散乱法によるSiウエハ表面のナノ微細欠陥とナノ構造の計測と評価
- シリコンウエハ表面上の微粒子・微小欠陥による光散乱 : 散乱光強度およびレンズによる像形成の計算
- エキシマレーザによる基板表面凝集相の光化学反応
- 24pPSA-22 Direct Energy Minimization (DEM)法による少数多体系の基底状態計算(24pPSA 領域11ポスターセッション,領域11(統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理))
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発 (第5報) : Siウエハ表面に対する洗浄前後の微粒子測定による表面評価
- レーザー光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -Siウェーハ表面の観察-
- ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウエハ表面の微粒子および欠陥計測による表面評価
- レーザー光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -微小粒子の測定-
- ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウェーハの洗浄による表面評価
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第7報) -ウルトラクリーンルームでのSiウェーハ面の測定と微粒子測定表面評価-
- 関西支部の現況
- カーボンナノチューブを探針にしたSTM/SREMによるSi表面の観察
- STM/STSによるハロゲン吸着Si(001)2X1表面の観察(第3報)
- 数値制御プラズマCVM加工装置の開発(第1報)
- 光散乱法によるナノメートルオーダの微粒子の計測(超精密加工・計測を支える環境制御技術)
- 微粒子測定機による粗さ測定法とSiウエハ表面評価
- レーザ光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -P, S偏光による標準試料の測定-
- 微小共振球の近接場光学顕微鏡プローブへの応用
- 回転電極を用いた大気圧プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第5報) -高速形成a-Si薄膜の特性-
- 回転電極を用いた大気圧プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第4報) -a-Siの成膜速度の高速化-
- プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における切断加工に関する研究(第3報) -各種材料の切断加工特性-
- EEM(Elastic Emission Machining) 加工システムの超清浄化
- EEMにおける原子除去過程の第一原理分子動力学シミュレーション
- 金属窒化物セラミックスの薄膜成長過程の第一原理シミュレーション
- EEMにおける原子除去過程の第一原理分子動力学シミュレーション
- 精密工学会創立75周年に寄せて : 私にとっての精密工学会(2.1 歴代会長より,2.諸先輩からのメッセージ,創立75周年記念)
- 精密工学における "物づくり" の研究に光を
- EEM(Elastic Emission Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション (第3報) -化学結合の分子軌道計算-
- 曲線のラウンドネス値について(第34回研究発表大会)
- 28aPS-21 非直交基底による電子相関エネルギーの高精度計算手法(28aPS 領域11ポスターセッション,領域11(統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理))
- レーザー光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -冷却CCDカメラによる測定-
- 高圧力・高周波プラズマの計測と制御 -プラズマの時空間分解発光分光測定-
- 超精密加工技術を支援する計算機シミュレ-ション
- 25pPSB-35 Si(001)表面の超純水によるエッチング現象の第一原理計算(25pPSB 表面界面・結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長分野))