回転電極型大気圧プラズマCVD法によるSiN-X膜の成膜に関する研究(SiH4/NH3系成膜)
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概要
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- 2002-03-01
著者
-
森 勇蔵
大阪大学大学院工学研究科
-
森 勇藏
大阪大学大学院 工学研究科
-
垣内 弘章
大阪大学大学院工学研究科
-
中濱 康治
シャープ(株)
-
芳井 熊安
大阪大学大学院工学研究科
-
安武 潔
大阪大学 大学院工学研究科
-
安武 潔
大阪大学
-
垣内 弘章
大阪大学 大学院工学研究科
-
山本 達志
シャープ(株)
-
山本 達志
シャープ(株)精密技術開発センター
-
垣内 弘章
大阪大学工学部
-
吉井 熊安
大阪大学工学部
-
森 勇蔵
大阪大学工学部精密工学科
-
阿武 潔
大阪大学大学院工学研究科
-
芳井 熊安
大阪大学工学部精密工学科
-
森 勇蔵
大阪大学 工学部
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