渡辺 和人 | 都立高専

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概要

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• 渡辺 和人

  都立高専

• 橋本 巌

  東理大理

• 山崎 貴司

  東理大理

• 渡辺 和人

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• 菊地 吉男

  MIRAIプロジェクト

• 山口 弘之

  東理大理

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  東理大理

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  東理大

• 橋本 巌

  東理大 理

• 橋本 巖

  東理大理

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  東理大

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  東理大理

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  東理大理

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  東理大理

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  東理大

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  東理大理

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  東理大理

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  東理大理

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  東理大物理

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• 加勢 正隆

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• 川崎 正博

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• 小高 康稔

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• 小高 康稔

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  大同工大

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  東理大理

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  東理大 理

• 堀尾 吉巳

  大同工大工

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  東理大理

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  東理大理

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  京都工芸繊維大

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  東理大理

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  東理大 理

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  東理大理

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  東理大理

• 安西 優

  東理大理

• 吉田 〓

  東理大理

• 山崎 貴司

  東理大

• 安西 優

  東理大

• 渡辺 一之

  東理大理

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  日本電子(株)

• 奥西 栄治

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• 橋本 嚴

  東理大理

• 山崎 貴司

  東理大物理

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  東理大理

• 吉田 〓

  広島工大

• 渡辺 一之

  都立高専

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  東理大理

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  富士通(株)プロセス開発部

• 吉田 正道

  富士通

• 菊地 吉男

  半導体MIRAIプロジェクト

• 長枝 浩

  株式会社トリマティス

• 長枝 浩

  富士通

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  東理大理

• 加瀬 正隆

  富士通

• 菊池 吉男

  富士通

• 富樫 富隆

  東理大理

• 菊地 吉男

  ASET

• 内藤 繁

  東理大理

• 吉田 〓

  広工大

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  東理大

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  東理大理

• 山口 弘之

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  電総研

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  東理大 理

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  物材機構

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  物質・材料研究機構

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  物質・材料研究機構

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• 古屋 一夫

  物質・材料研究機構 ナノマテリアル研

• 古屋 一夫

  金属材料技術研究所精密励起場ステーション

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• 和田 守夫

  東理大 理

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  東理大・理

• 渡辺 和人

  東理大・理

• 吉田 〓

  東理大・理

• 富岡 専弥

  東理大 理

• 富田 専称

  東理大 理

• 橋本 嚴

  東理大

• 三石 和貴

  (独)物質・材料研究機構

• 菊池 吉男

  東理大理

• Strum S.

  Jozef Stefan Institute

• Ceh M.

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• 塩尻 駿詢

  金沢医大

• 佐藤 茂樹

  Tdk

• 橋本 巌

  東理天理

• 笠原 美佐和

  都立航空高専

• 塩尻 詢

  金沢医大:工繊大

• 三石 和貴

  物材機構ナノマテ研

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著作論文

• 28pYA-13 高分解能HAADF STEM像に及ぼす非点の影響(28pYA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 28pYA-14 Ronchigramを用いたレンズ定数の測定(28pYA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 25pYS-9 低指数入射ronchigramを用いた球面収差係数の精密測定(X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
• 18pTH-9 HAADF STEM像のdeconvolution処理
• 22aYH-4 GaAsの高分解能暗視野STEM像の解析II
• 24aZL-8 GaAsの高分解能暗視野STEM像の解析
• 27aYA-2 HAADF-STMによるSi(110)観察における原子直視性の検証
• 28p-B-5 収束電子線回折像におよぼす不純物原子の効果
• 31p-C-5 CBED法によるSi中のイオン打ち込みされた不純物濃度分布の決定
• 28a-P-7 収束電子線回折法によるSi中の不純物原子濃度の決定
• 4a-X-7 GaAs, InPにおよぼす熱散漫散乱の効果II
• 3p-X-6 大角度収束電子線回折法による不純物原子のDebye-Waller factor および濃度決定
• 31a-YM-3 InP, InAsの格子像におよぼす熱散漫散乱の効果
• 13a-DL-3 格子像におよぼす熱散漫散乱の効果
• 13a-DL-2 熱散漫散乱(TDS)効果の多波動力学による計算手法
• 29a-ZB-13 InP、InAsの(100)格子像の二次元強度分布
• 29a-ZB-12 高分解能電子顕微鏡像に及ぼす熱散漫散乱(TDS)の効果
• 28a-S-10 高分解能電子顕微鏡像に及ぼす熱散漫散乱(TDS)の効果
• 28a-S-9 InP、InAs(100)格子像
• 30a-L-5 InP、InAs、InSbの格子像 III
• 24a-Q-1 InP、InAs、InSbの格子像について II
• 2a-TA-1 InP、InAsの格子像について
• 31a-TJ-3 多波動力学における結晶ポテンシャルの評価
• 31a-ZA-4 ランプアニール後のAs注入Si基板の残留欠陥
• 29p-YC-2 イオン打ち込みされたSiの回復過程でのSb析出物
• 3a-X-9 Si中にイオン打ち込みされたSbの析出
• B-2 揚力の取り扱いとベルヌーイの原理(分科B:「実験開発」)
• 28a-A-4 Siにイオン注入されたB, As濃度分布及び注入ダメージの解析
• 24aYK-6 HAADF STEM像に及ぼす分解能関数の影響(24aYK X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 25aYK-13 鉄微粒子を内包したカーボンナノオニオンの構造解析(25aYK 格子欠陥・ナノ構造(微粒子・ナノ構造・炭素物質),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 28pYA-12 非整合系多層膜の動力学計算(28pYA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 28pYA-15 HAADF STEM像のDebye-Waller因子依存性とその精密測定II(28pYA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 21aYM-11 低指数入射HOLZ線の定式化と歪測定への可能性(X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 21aYM-7 Layer-by-layer法を用いたHAADF STEM計算の改良(X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 20aYN-6 カーボンオニオンに内包されたFeの構造解析(格子欠陥・ナノ構造(分光法・炭素系物質),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 25pYS-5 Kr-doped Geの再結晶化領域の構造観察(X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
• 25pYS-3 収束電子線回折法によるSOI wafer中の歪分布の精密測定(X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
• 13pTJ-12 Si の再結晶化領域に形成される lamellar microtwin の原子構造(電子線, 領域 10)
• 13pTJ-6 収束電子線回折法を用いた Si/SiO_2 酸化膜の歪分布の精密測定(電子線, 領域 10)
• 15aTJ-4 HF-CVD diamond 結晶粒間に形成されるナノ closed-shell carbon の観察(格子欠陥・ナノ構造, 領域 10)
• 28pXM-4 再結晶化したSi薄膜の精密構造解析(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• 13pTJ-8 高分解能電子顕微鏡像及び HAADF STEM 像による Si/SiO_2 界面の構造決定(電子線, 領域 10)
• 28pXM-6 HAADF STEM法によるSi/SiO_2界面の構造解析(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• 28aXM-4 高分解能small angle BF STEM及びlarge angle BF STEM像の形成機構(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• HAADF-STEMによるSi中の不純物As原子の2次元分布の測定
• 27aYA-5 HAADF-STEMによるイオン打ち込みしたSi中のAs原子の同定
• 26aYL-8 高濃度As注入Si基板中に形成された不活性Asクラスターの構造
• 28p-XJ-3 動力学計算を用いた格子定数測定法の改善
• 25p-K-10 動力学計算を用いたSi結晶の格子定数の精密測定。
• 25a-T-11 CBED法によるランプアニール後のAs注入Si基板の構造解析
• 5a-X-3 CBED法よるイオン打ち込みされたSi中の欠陥の研究
• CBED法によるSi中のB, As濃度分布の決定
• 13pTJ-9 HAADF STEM 法による MQW InGaN/GaN 中の ordering と phase separation の解析(電子線, 領域 10)
• 22pXB-11 Kr のイオン打ち込みに伴う Si の構造変化 II
• 22pXB-2 CBED, HAADF- 及び BF-STEM の動力学計算の高速化
• 22pXB-1 STEM 像の真空間でのノイズ除去
• 24aZL-6 RHEED rocking curveのpeakの起源 II
• 2a-TA-2 Si中のVacancy及び不純物原子の格子像
• 29p-A-6 化合物半導体の等厚干渉縞におけるスクリーニングの効果
• 31a-TJ-2 化合物半導体の格子像 (2)
• 6p-B5-4 化合物半導体の(110)格子像
• 6p-B5-3 高分解能電子顕微鏡像の新しい計算III
• 29p-A-5 格子欠陥の高分解能電子顕微鏡像の計算
• 28aXC-2 高分解能HAADF STEM像に及ぼすわずかな斜め入射の効果
• 22aYH-3 Si(011)のスルーフォーカスHAADF-STEM像
• 22aYH-2 HAADF-STEM像の計算手法
• HAADF-STEMによるSrTiO_3中Bi分布の定量解析
• 24aZL-9 HAADF-STEMによるSrTiO_3半導体セラミックの粒界構造の決定 II
• 27aYA-4 HAADF-STEMによるSrTiO_3半導体セラミックの粒界構造の決定
• 27aYA-3 高分解能HAADF-STEM像による不純物濃度決定の簡単な計算手法
• 24aYK-5 3次元Bloch波を用いたRHEED計算法の開発(24aYK X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 28aXM-5 欠陥を含んだ高分解能STEM像計算の高速化(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• 30pXD-6 高分解能 BF STEM 像の装置定数依存性
• 2p-T-1 Si中の転位の遠赤外分光による研究V
• 30a-T-7 過剰原子空孔の集積過程(II)
• 2p-NJ-12 Si中の転位の遠赤外分光による研究 IV
• 2p-G-5 Si中のdislocationの遠赤外分光による研究III
• 4a-L-4 ヘリウム雰囲気中で急冷したアルミニウム中の二次欠陥 II
• 30p-J-9 Si中のdislocationの遠赤外分光による研究 II
• 30a-J-9 ヘリウム雰囲気中で急冷したアルミニウム中の二次欠陥
• 4p-P-4 Si中のdislocationの遠赤外光分光による研究
• 3a-P-10 Random Walkする過剰原子空孔の集積過程
• 5a-DQ-4 種々のガス雰囲気中で急冷したAl中の二次欠陥形成におよぼす第二元素の影響
• 1p-CE-8 急冷アルミニウム中の転位ループ形成におよぼす第二元素の影響 II (Fe,Ni,Mg,Zn)
• 6a-M-5 急冷Al中の二次欠陥の形成におよぼす微量のGe,Au等の影響
• 7p-Q-11 急冷Al中の二次欠陥の形成におよぼす微量のSi,Cu原子の影響
• 7a-M-10 急冷Al中のdislocation loop形成に及ぼす不純物原子の影響
• 28p-XJ-4 動力学的HOLZ計算の新手法
• 30p-YC-2 HOLZ lineを用いたイオン打ち込みされたSi中のself-interstitialの解析
• Sbをイオン打ち込みしたSi中の欠陥のアニーリング時間依存性
• 3a-M-13 イオン打ち込みされたSiの回復過程でのSb析出物III
• 27a-N-4 イオン打ち込みされたSiの回復過程でのSb析出物II
• 29p-BPS-64 Si(100)二量体に及ぼす電界効果
• 24a-PS-30 Si(100)表面電子状態に及ぼす電界効果
• 2a-T-1 Si(100)表面電子状態に及ぼす強電界効果
• 21aYM-6 HAADF STEM像のDebye-Waller因子依存性とその精密測定(X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 28a-H-14 急冷Alの二次欠陥形成に及ぼす金属不純物原子の影響 II
• 29a-J-5 Si(001)面のRHEED振動モードの解析
• 27aYA-1 Si(001)RHEED rocking curveのpeakの起源
• 25a-K-12 2次元Bloch波を用いたSi(111)7x7からのRHEED rocking curveの解析II
• 30p-YC-1 2次元Bloch液を用いた、Si(111)7x7表面からのRHEED Rocking Curveの解析
• 5a-H-7 RHEEDにおける2次元Bloch波を用いた波動場計算
• 3a-N-9 高分解能電子顕微鏡像に及ぼす、Charge electronのScreeningの効果
• 3p-C-6 Cu中のdivacancyとtrivacancyの高分解能電子顕微鏡像
• 25pYS-2 HAADF STEMおよびEELSを用いたhigh-k膜の構造および組成解析(X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
• 30pXD-9 Kr のイオン打ち込みに伴う Si の構造変化
• 30pXD-8 界面を含む HAADF STEM 像の画像処理
• 30pXD-7 HAADF STEM 像による Si/SiO_2 の構造解析 II
• 18pTH-8 新しいHAADF STEM像計算のconvolution表示II
• 22pXB-4 Structural and compositional analysis of planer faults in XO-doped SrTiO_3 (X=Sr, Ca, Ba)
• 18pTH-7 HAADF STEM像はconvolution表示できるのか?
• 28aXC-3 HAADF STEM像のconvolution表示
• 28aXC-1 新しいSTEM像の計算手法 II
• 28aXM-9 収束電子線回折法を用いた局所歪みの測定方法II(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• 22aXB-4 収束電子線回折法を用いた局所歪みの測定方法
• 21aXA-11 ZnO amorphous 中に含まれる ZnO 多重双晶微粒子の解析
• 28pYG-1 Bi_2O_3 を添加した ZnO の界面構造
• RHEED計算の結晶場計算
• 電子線回折の高角度散乱に及ぼす相対論効果
• 27a-ZB-6 高分解能電子顕微鏡像の多波動力学計算 II
• 3p-X-7 Si(001)面のRHEED振動のシミュレーション
• 31a-YM-2 新しい多波動力学手法による欠陥のシミュレーション
• 31a-YM-1 新しい多波動力学手法による表面効果のシミュレーション
• 13a-DL-1 新しい多波動力学計算の計算手法 II
• 29a-ZB-11 高分解能電子顕微鏡像に及ぼす斜め入射の効果
• 29a-ZB-10 新しい多波動力学計算の計算手法
• 28a-S-11 高分解能電子顕微鏡像の多波動力学計算 III
• 30a-L-6 高分解能電子顕微鏡像の多波動力学計算 I
• 1a-KL-1 AuおよびCu中のvacancyとdi-vacancyの電子顕微鏡像
• 28p-XJ-5 2次元、3次元Bloch波による電子線回折の解析
• 5a-X-2 Asymmetric caseにおける動力学計算の問題点
• 31p-C-4 Dirac方程式をもとにしたRHEEDの多波動力学計算
• 31p-C-3 2次元Bloch波による多波動力学計算
• 28a-P-6 電子線回折の相対論的多波動力学計算 II
• 28p-B-4 電子線回折の相対論的多波動力学計算
• 1p-M3-3 高分解能電子顕微鏡像の新しい計算方法II(X線・粒子線)
• 30a-EB-4 ZnSeの高分解能電子顕微鏡像(X線・粒子線)
• 7aSL-3 Low-order zone axis CBED法を用いた試料の膜厚測定((電子線),X線・粒子線,領域10)
• 7aSK-11 Si中にイオン打ち込みしたKr原子の自己結晶化II(格子欠陥・ナノ構造,領域10)
• 30a-EB-3 高分解能電子顕微鏡像の新しい計算方法(X線・粒子線)
• 2p-A3-9 Cu中のinterstitial及び、大きく変位した原子の高分解能電子顕微鏡像(2p A3 格子欠陥,格子欠陥)
• 24aWJ-2 HAADF STEM像のdeconvolution処理 II(24aWJ X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性分野))
• 31a-TH-1 高分解能電子顕微鏡像の新しい計算 IV(31aTH X線・粒子線)
• 31p-A3-1 Siの高分解能電子顕微鏡像に及ぼすcharge densityの効果(31p A3 X線・粒子線,X線・粒子線)
• 1p-CF-4 化合物半導体の高分解能電子顕微鏡像に及ぼすscreeningの効果(1p CF X線・粒子線)
• 1p-CF-5 結晶ポテンシャル及び,X線の原子散乱因子に及ぼすscreeningの効果(1p CF X線・粒子線)

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