原子的尺度で見たシリサイド/シリコン界面の構造と性質--ショットキ-障壁の問題を中心として
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概要
著者
-
知京 豊裕
(独)物質・材料研究機構
-
原 史朗
産業技術総合研究所
-
大泊 巌
早大理工
-
Ohdomari Iwao
School Of Science And Engineering Waseda University:kagami-memorial Laboratory For Materials Science
-
原 史朗
独立行政法人 産業技術総合研究所
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