Nucleation and Growth of Cu Adsorbates on Hydrogen-Terminated Si(111) Surface in Solution
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1999-12-15
著者
-
原 一広
「応用物理」編集委員会
-
TANII Takashi
School of Science and Engineering, Waseda University
-
Tanii T
Waseda Univ. Tokyo Jpn
-
大泊 巌
早大理工
-
大泊 巌
早稲田大学理工学術院
-
Ohdomari Iwao
Kagami Memorial Laboratory For Material Science And Technology Waseda University
-
Ohdomari Iwao
School Of Science And Engineering Waseda University:kagami-memorial Laboratory For Materials Science
-
Ohdomari Iwao
School Of Science And Engineering Waseda University:kagami Memorial Laboratory For Materials Science
-
Tanii Takashi
Department Of Electronics Information And Communication Engineering School Of Science And Engineerin
-
Tanii Takashi
School Of Science And Engineering Waseda University
-
Hara K
Synthetic Crystal Research Laboratory Faculty Of Engineering Nagoya University
-
Hara Kunihiro
Opto-electronics Research Laboratories Nec Corporation
-
Hara K
Tokyo Inst. Technol. Yokohama Jpn
-
HARA Ken-ichi
School of Science and Engineering, Waseda University
-
Hara Ken-ichi
School Of Science And Engineering Waseda University
-
大泊 巌
早大
-
大泊 巌
早大・理工
-
HARA Kazuhiro
Department of Applied Science, Faculty of Engineering Kyushu University
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- 基礎編/有機分子エレクトロニクスの基礎と応用
- 発展する量子エレクトロニクス応用
- 基礎講座
- 基礎講座
- 基礎講座 : 基礎編/有機分子エレクトロニクスの基礎と応用
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- 基礎講座 : 基礎編/有機分子エレクトロニクスの基礎と応用
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