Development of an Ion and Electron Dual Focused Beam Apparatus for Three-Dimensional Microanalysis
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概要
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We are developing a novel three-dimensional (3D) microanalysis method by means of successive cross-sectional Auger mapping. In this method, a 3D elemental map will be obtained by repetition of the cross-sectioning of a sample using a gallium focused ion beam (Ga FIB) and Auger mapping of the cross section using an electron beam (EB). On the basis of this concept, an ion and electron dual focused beam apparatus was developed by combining a Ga FIB and a mass spectrometer with a scanning Auger microprobe. In this paper, we describe the concept and instrumentation of the dual focused bcam apparatus. Two types of preliminary experiments; i) successive cross-sectioning of a microparticle (6.8 μmφ) and ii) successive cross-sectional sample current imaging of a bonding wire of an IC, demonstrated the capability to create flat analytical surfaces favorable for the 3D analysis with arbitrary shape and heterogeneity.
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1998-04-15
著者
-
二瓶 好正
東京理科大学総合研究機構
-
SAKAMOTO Tetsuo
Institute of Industrial Science, The University of Tokyo
-
Nihei Yoshimasa
Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo
-
Sakamoto Toshitugu
Faculty Of Engineering Science Osaka University
-
Shiokawa Takao
Semiconductor Laboratory Riken The Institute For Physical And Chemical Research
-
Owari Masanori
Environmental Science Center The University Of Tokyo
-
Sakamoto T
Department Of Communication Engineering Faculty Of Computer Science And System Engineering Okayama P
-
CHENG Zhaohui
Institute of Industrial Science, the University of Tokyo
-
TAKAHASHI Masanori
Institute of Industrial Science, the University of Tokyo
-
Cheng Z
Tsinghua Univ. Beijing Chn
-
Takahashi Masanori
Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo
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