ナノビーム二次イオン質量分析装置の試作と評価
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概要
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近年の電子デバイスの微小化に伴い,ナノレベルでの分析・評価技術の確立が急務となっている.そこで,ナノ局所領域の元素分布分析の実現を目的とし,高空間分解能かつ高効率な二次イオン検出を実現するナノビームSIMS装置の試作を行った.本装置の一次イオンビームの評価を行った結果,面方向分解能の一つの指標となるエッジ分解能は標準偏差1σで22 nm程度と見積もられた.更に二次イオンマッピングにおけるユースフルイールドを議論した結果,数十nmの深さ方向を持つ試料に対して有効な分析手法であることが示唆された.更にDRAMのAlの二次イオンマッピングを行い,高空間分解能かつ高効率な二次イオン検出による^<27>Al^+の元素マッピングを可能とした.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 2003-03-05
著者
-
坂本 哲夫
東京大学環境安全研究センター
-
野島 雅
東京大学生産技術研究所
-
神田 雄介
東京大学生産技術研究所
-
戸井 雅之
東京大学生産技術研究所
-
冨安 文武乃進
東京大学環境安全研究センター
-
坂本 哲夫
東京大学生産技術研究所
-
尾張 真則
東京大学生産技術研究所
-
二瓶 好正
東京大学生産技術研究所
-
二瓶 好正
東京理科大学総合研究機構
-
坂本 哲夫
東大 環境安全研セ
-
神田 雄介
東京大学生産技術研究所:東京理科大学理工学部
-
戸井 雅之
東京大学生産技術研究所:東京理科大学理工学部
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