31a-PS-7 超薄膜からの光電子回折パターン中のホログラフィック干渉環の研究
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1998-03-10
著者
-
石井 秀司
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻:(現)(株)イオン工学研究所
-
二瓶 好正
東京理科大学総合研究機構
-
大森 真二
ソニー株式会社セミコンダクタネットワークカンパニー LSIテクノロジー開発部門 リソグラフィ技術部
-
石井 秀司
東京大学 生産技術研究所
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大森 真二
東大生研
-
小堺 智一
セイコーインスツルメンツ
-
二瓶 好正
東大生研
-
石井 秀司
東大生研
-
小堺 智一
東大生研
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