大森 真二 | 東大生研

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概要

• 同名の論文著者
• 東大生研の論文著者

関連著者

• 大森 真二

  ソニー株式会社セミコンダクタネットワークカンパニー LSIテクノロジー開発部門 リソグラフィ技術部

• 大森 真二

  東大生研

• 二瓶 好正

  東大生研

• 石井 秀司

  京都大学大学院工学研究科材料工学専攻:(現)(株)イオン工学研究所

• 二瓶 好正

  東京理科大学総合研究機構

• 石井 秀司

  東大生研

• 石井 秀司

  東京大学 生産技術研究所

• 小堺 智一

  セイコーインスツルメンツ

• 鈴木 敬紀

  東大生研

• 成松 啓博

  東大生研

• 鈴木 教典

  三菱化学

• 小堺 智一

  東大生研

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著作論文

• 26aPS-30 光電子ホログラフィーによるSrF_2/Ge(111)の研究
• 26aPS-23 X線光電子回折によるGe(111)-c(2x8)上のCu薄膜成長の研究
• 28p-S-15 Ge(111)-e(2×8)上へのCuの成長初期過程のX線光電子回折による研究
• 27a-PS-23 フッ化物からのX線光電子回折パターンにおける菊池バンドの消滅
• 26p-YR-1 テンソルLEED法の光電子回折への応用
• 26a-YR-10 X線光電子回折法を用いたCu/Ge(111)の研究
• 31a-PS-7 超薄膜からの光電子回折パターン中のホログラフィック干渉環の研究
• 7a-PS-53 X線光電子回折における菊池バンドをもちいた結晶構造因子の決定
• 29p-T-13 電子線回折と異なる光電子回折における菊池バンドの消滅則
• 29a-PS-30 Ge(111)-c(2×8)上に成長させたSrF_2超薄膜の光電子回折による構造解析
• CaF_2-硫黄処理InP(100)界面の硫黄層からの光電子回折
• 3p-J-7 光電子回折法による S/InP(100)及びその上に成長した CaF_2薄膜の構造解析

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