飛行時間型二次イオン質量分析法による磁気ディスク潤滑膜/炭素膜界面の構造状態評価
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概要
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磁気ディスクの潤滑膜と炭素膜の界面の構造及び結合状態について, X線光電子分光装置(ESCA)と飛行時間型二次イオン質量分析計(TOF-SIMS)により検討を加えた. 炭素膜スパッタカーボン膜Aに潤滑剤Fomblin AM2001, Fomblin Z. DOL及びFomblin Z. DIACをそれぞれコーティングした磁気ディスクを用い, 角度分解ESCA, TOF-SIMS等により潤滑膜/炭素膜界面における構造と結合状態を明らかにした. また, 結合潤滑剤, 遊離潤滑剤の炭素膜界面の構造及び作用についても考察を加えた. Fomblin AM2001では, 末端基のベンゼン環が炭素膜表面のsp^2成分と吸引的相互作用し密着しており, Fomblin Z. DOL, Fomblin Z. DIACでは, 末端基のOH基, COOH基が炭素膜表面上に吸着された水分と水素結合し密着していると推察された. 炭素膜との密着に関与している潤滑剤が結合潤滑剤であり, 関与していない潤滑剤が遊離潤滑剤と思われる.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 2000-04-05
著者
-
二瓶 好正
東京大学生産技術研究所
-
吉野 信行
電気化学工業(株)大牟田工場第五製造部基板開発室
-
吉野 信行
電気化学工業(株)渋川工場:(現):電気化学工業(株)大牟田工場
-
雨宮 哲夫
電気化学工業(株)渋川工場
-
梅田 芳男
電気化学工業(株)渋川工場
-
吉野 信行
電気化学工業
-
雨宮 哲夫
電気化学工業(株)渋川工場:(現):電気化学工業(株)
-
二瓶 好正
東京大学生産技術研究所:(現)東京大学生産技術研究所
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