Cu/ポーラスLow-k多層配線におけるバリアメタル酸化の評価
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概要
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- 2009-07-09
著者
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中村 友二
富士通研究所
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中村 友二
(株)富士通研究所
-
中田 義弘
株式会社富士通研究所
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射場 義久
富士通株式会社
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射場 義久
富士通マイクロエレクトロニクス
-
小林 靖志
富士通研究所
-
尾崎 史朗
富士通研究所
-
中田 義弘
富士通研究所
-
小林 靖志
(株)富士通研究所
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