小林 靖志 | 富士通研究所

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概要

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• 富士通研究所の論文著者

関連著者

• 中村 友二

  富士通研究所

• 小林 靖志

  富士通研究所

• 中田 義弘

  富士通研究所

• 小林 靖志

  (株)富士通研究所

• 武山 真弓

  北見工業大学

• 野矢 厚

  北見工業大学

• 佐藤 勝

  北見工業大学

• 佐藤 勝

  北見工業大学電気電子工学科

• 武山 眞弓

  北見工業大学電気電子工学科

• 野矢 厚

  北見工業大学工学部

• 武山 真弓

  北見工業大学工学部

• 武山 真弓

  北見工業大学電気電子工学科

• 中村 友二

  (株)富士通研究所

• 野矢 厚

  北見工業大学工学部電気電子工学科

• 中田 義弘

  株式会社富士通研究所

• 射場 義久

  富士通株式会社

• 射場 義久

  富士通マイクロエレクトロニクス

• 尾崎 史朗

  富士通研究所

• 武山 真弓

  北見工業大学工学部電気電子工学科

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著作論文

• Cu/ポーラスLow-k多層配線におけるバリアメタル酸化の評価
• C-6-3 TSV配線における絶縁層としてのSiN_x膜の低温作製(C-6. 電子部品・材料,一般セッション)
• C-6-5 Tsvに適用可能な低温SiN。膜のキャラクタリゼーション(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
• C-6-2 低温作製されたスパッタ-SiN_x膜のカバレージ特性(C-6.電子部品・材料,一般セッション)

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