サファイアR面基板上低転位GaNの特性評価(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
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概要
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R面サファイア基板上に、MOVPE法を用い、高速成長とELOを組み合わせて、高品質なA面GaNを得た。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-05-20
著者
-
岩谷 素顕
名城大学理工学研究科
-
赤崎 勇
名城大学理工学研究科
-
川島 毅士
名城大学大学院 理工学研究科・21世紀coeナノファクトリー
-
天野 浩
名城大
-
岩谷 素顕
名城大学大学院理工学研究科
-
上山 智
名城大学大学院理工学研究科
-
天野 浩
名城大学大学院理工学研究科
-
赤崎 勇
名城大学大学院理工学研究科
-
本塩 彰
名城大学理工学研究科 21世紀coe"ナノファクトリー
-
本塩 彰
名城大学大学院理工学研究科、21世紀coe"ナノファクトリー
-
古川 寛子
名城大学大学院理工学研究科、21世紀COE"ナノファクトリー"
-
岡留 由真
名城大学大学院理工学研究科、21世紀COE"ナノファクトリー"
-
土屋 陽祐
名城大学大学院理工学研究科、21世紀COE"ナノファクトリー"
-
津田 道信
名城大学大学院理工学研究科、21世紀COE"ナノファクトリー"
-
井村 将隆
名城大学大学院・理工学研究科・21世紀COEナノファクトリー
-
仲野 靖孝
名城大学大学院・理工学研究科・21世紀COEナノファクトリー
-
井村 将隆
名城大学大学院 理工学研究科・21世紀coeナノファクトリー
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名城大学大学院・理工学研究科・21世紀COEナノファクトリー
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