エキシマ・レーザ・アニーリングにより形成された再結晶化多結晶シリコンの応力緩和

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概要

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• 電子情報通信学会の論文
• 2002-07-01

著者

• 河本 直哉

  山口大学大学院理工学研究科

• 阿部 寿

  三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所

• 河本 直哉

  山口大 工

• 河本 直哉

  山口大学工学部

• 田口 亮平

  山口大学工学部電気電子工学科

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