2116 SiO_2皮膜の金電極を有するAFMプローブの開発(要旨講演,一般セッション:マイクロナノメカトロニクス)
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概要
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We have developed a new fabrication method of electro-chemical probe for scanning electro-chemical microscopy. In our method, a SiN film, which is used for a mask layer of successive LOCOS (Local Oxidation of Silicon) process, was deposited on a Si{100} wafer and patterned at bottom of an anisotropically etched pyramidal hole. Following LOCOS process formed a SiO2 film except for the area of the SiN film. After removing the SiN film, a gold layer was deposited and patterned; which was then covered with a sputtered SiO2 layer. Final Si substrate etching completed the process. Using this process, we have successfully formed an electro-chemical cantilever which has a small gold probe covered with SiO2 film except for the tip of the probe having the radius of nanometer order.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2008-03-17
著者
-
橋口 原
香川大
-
細木 真保
香川大学
-
橋口 原
静岡大学
-
細木 真保
静岡大学
-
倉永 大資
香川大
-
橋口 原
静岡大
-
細木 真保
香川大
-
HASHIGUCHI Gen
Research Institute of Electronics Shizuoka University
-
橋口 原
Research Institute Of Electronics Shizuoka University
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