101 マイクロマシン技術で作るナノ構造とその応用(M&Mのニューアスペクト)
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概要
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We present our recent study of micromachined nano-structures. To overcome difficulty of reliable fabrication of nano-structures, conventional anisotropic wet etching and local oxidation of silicon (LOCOS) technique are combined. Since dimensions of the nano-structure are only determined by a thickness of a silicon on insulating (SOI) layer, neither lithographic precision nor etching condition influence them. Silicon nano wires, four-point nano devices, field emitter arrays are demonstrated using our new fabrication method. Finally, we touch our recent development of a twin nano-probe device, which is expected for an electrical probing tool in sub-micron or mesoscopic domain.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2001-03-27
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