Broadband Antireflection Gratings for Glass Substrates Fabricated by Fast Atom Beam Etching
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概要
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We fabricated a two-dimensional subwavelength-structured (SWS) surface on a glass substrate. The SWS surface was patterned by electron-beam lithography and etched by an SF_6 fast atom beam. The SWS surface consisted of tapered gratings with a 150nm period and a 150nm deep groove. The reflectivity at wavelengths from 400nm to 2000nm was measured and compared with the results calculated on the basis of rigorous coupled-wave analysis. At wavelengths from 400nm to 800nm, the reflectivity of the glass surface decreased to 1% from the original value of 5% of the glass substrate. The reflectivity was also examined as a function of the incident angle by using He-Ne laser light.
- 社団法人応用物理学会の論文
- 2000-07-15
著者
-
羽根 一博
東北大学大学院
-
Kikuta Hisao
Department Of Mechanical Engineering College Of Engineering University Of Osaka Prefecture
-
Kikuta Hisao
Department Of Mechanicals Systems Engineering College Of Engineering Osaka Prefecture University
-
Hane Kazuhiro
Department Of Electronic Mechanical Engineering Faculty Of Engineering Nagoya University
-
Kanamori Yoshiaki
Department Of Machatronics And Precision Engineering Tohoku University
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