Subwavelength Antirefiection Gratings for Light Emitting Diodes and Photodiodes Fabricated by Fast Atom Beam Etching
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概要
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A two-dimensional antireflection subwavelangch-structured (SWS) surface is fabricated on GaAIAs light-emitting diodes (LEDs) and photodiodes. The SWS is patterned by electron beam lithography and etched by fast atom beams of SF6 and Cl_2 gases. The SWS grating has a conical profile, 200 mn period and 270 nm groove depth. The emission intensity from this LED is 30% larger than that from the LED without a SWS grating at the peak emisston wavelength. When this device is used as a photodiode, the reflection reduced by the SWS surface increases both the short-circuit current and open-circuit voltage. The SWS surface is useful as an antireflection structure improving the efficiency of the light emission of LEDs and the light detection of photodiodes.
- 社団法人応用物理学会の論文
- 2002-06-30
著者
-
佐々木 実
Dept. Of Advanced Science And Technology Toyota Technological Institute
-
ISHIMORI Masahiro
Tohoku University
-
金森 義明
東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻
-
Sasaki Minoru
Department of Acoustic Design,Kyushu Institute of Design
-
Hane Kazuhiro
Department Of Mechatronics & Precision Engineering Tohoku University
-
Sasaki M
Department Of Physics. Faculty Of Sciences Yamagata University
-
Sasaki Masahiro
Institute Of Applied Physics University Of Tsukuba
-
金森 義明
東北大・工
-
KANAMORI Yoshiaki
Department of Mechatronics and Precision Engineering, Tohoku University
-
羽根 一博
東北大学大学院
-
Hane Kazuhiro
Department Of Electronic Mechanical Engineering Faculty Of Engineering Nagoya University
-
ISHIMORI Masahiro
Department of Mechatronics and Precision Engineering, Tohoku University
-
金森 義明
東北大学大学院工学研究科
-
Kanamori Yoshiaki
Department Of Machatronics And Precision Engineering Tohoku University
-
Sasaki Minoru
Department Of Acoustic Design Kyushu Institute Of Design
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