位相シフトマスクを利用した立体サンプルの露光法
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概要
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An exposure method for realizing fine patterning on three-dimensional samples is described. Three-dimensional sample requires the different viewpoint from that of the proximity patterning. Concave areas can not be geometrically approached to the mask. The fine patterning becomes difficult due to the broadening of the exposure light. In this study, the phase shift mask is combined with the well-collimated mercury lamp. 5 μm-width line pattern is stably obtained on the 200 μm-deep cavity bottom.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2006-06-01
著者
-
佐々木 実
Dept. Of Advanced Science And Technology Toyota Technological Institute
-
羽根 一博
東北大学
-
羽根 一博
東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻
-
佐々木 実
東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻
-
陳俊中 エドウィン
東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻
-
Hane Kazuhiro
Department Of Mechatronics & Precision Engineering Tohoku University
-
Hane Kazuhiro
Faculty Of Engineering Tohoku University
-
Sasaki M
Department Of Physics. Faculty Of Sciences Yamagata University
-
Sasaki Masahiro
Institute Of Applied Physics University Of Tsukuba
-
羽根 一博
東北大学大学院
-
羽根 一博
東北大学大学院工学研究科
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