細いフレームを持つ焦点可変ミラーの SOI ウエハ残留応力による変形
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概要
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Silicon-on-insulator (SOI) wafers are used for many micro-electro-mechanical systems (MEMS). The influences of residual stress of SOI wafer on the fabricated structures are important especially for micro-mirror because the optical performances are often affected by them. In this study, we propose an analytical calculation for the deformation of mirror and frame of a varifocal mirror. The deformations of the fabricated structures were measured using a white light interferometer. The frame was tilted at 2.8mrad which was explained by the calculated value of 3.9mrad. The mirror was deflected by 100nm with the top-flat shape, which also agreed well with the proposed analysis.
著者
-
羽根 一博
東北大学
-
Hane Kazuhiro
Department Of Mechatronics & Precision Engineering Tohoku University
-
羽根 一博
東北大学大学院
-
佐々木 敬
東北大学大学院工学研究科
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