627 キャビテーションジョットを用いた半導体表面洗浄法の開発

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概要

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• 社団法人日本機械学会の論文
• 2000-09-08

著者

• 冨田 寛

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 檜山 浩國

  (株)荏原製作所

• 辻村 学

  (株)荏原製作所

• 白樫 克彦

  (株)荏原製作所

• 濱田 聡美

  (株)荏原総合研究所

• 灘原 壮一

  (株)東芝セミコンダクタ社

• 太田 正博

  東京都立大学

• 灘原 壮一

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体プロセス開発第四部

• 冨田 寛

  (株)東芝セミコンダクター社

• 辻村 学

  荏原

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