酸化剤濃度コントロールSOMによるレジスト剥離技術
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概要
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紫外線吸収濃度モニターを用いて酸化剤の濃度コントロールを可能とした硫酸/オゾン(SOM)によるレジスト剥離プロセスを開発した。SOM中のオゾン(O_3)及び生成されるペルオキソ硫酸(H_2S_2O_8)の濃度をモニターすることで、レジスト剥離を制御して行えるようになった。また、SOM薬液中への水蒸気混入を防止する雰囲気制御システムを開発したことにより、SOM薬液ライフが飛躍的に向上した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-10-09
著者
-
冨田 寛
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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灘原 壮一
(株)東芝セミコンダクタ社
-
斎藤 孝行
(株)荏原総合研究所
-
灘原 壮一
(株)東芝 セミコンダクター社 半導体プロセス開発第四部
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冨田 寛
(株)東芝セミコンダクター社
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佐藤 基之
(株)東芝 セミコンダクター社 半導体プロセス開発第四部
-
小路丸 友則
大日本スクリーン製造(株) 開発本部
-
村岡 祐介
大日本スクリーン製造(株) 開発本部
-
村岡 祐介
大日本スクリーン製造(株)
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