Ni(P)/Ta/TaN/Ta拡散バリアを用いた新しい高温はんだ接合技術
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概要
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- エレクトロニクス実装学会の論文
- 2012-07-01
著者
-
仲川 博
独立行政法人産業技術総合研究所
-
佐藤 弘
産総研・強相関電子技術セ
-
山口 浩
独立行政法人産業技術総合研究所エネルギー技術研究部門
-
佐藤 弘
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
郎 豊群
独立行政法人産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
-
山口 浩
独立行政法人産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
-
佐藤 弘
独立行政法人産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
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