高温超伝導体積層型SISジョセフソン接合と酸化物界面工学
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概要
著者
-
石田 洋一
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
鯉沼 秀臣
東京工業大学工業材料研究所
-
鯉沼 秀臣
東工大工材研
-
鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
-
Lippmaa Mikk
東大 物性研
-
川崎 雅司
東京工業大学大学院総合理工学研究科
-
佐藤 弘
産総研・強相関電子技術セ
-
赤穂 博司
産総研・強相関電子技術セ
-
石田 洋一
東京大学工学部
-
LIPPMAA Mikk
東京工業大学大学院総合理工学研究科
-
土屋 龍太
東京工業大学大学院総合理工学研究科
-
鯉沼 秀臣
(独)科学技術振興機構 研究開発戦略センター
-
鯉沼 秀臣
東京工業大学
-
藤本 英司
東京工業大学大学院総合理工学研究科
-
佐藤 弘
工業技術院電子技術総合研究所
-
赤穂 博司
工業技術院電子技術総合研究所
-
藤本 英司
産総研cerc:jst-crest
-
佐藤 弘
独立行政法人産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
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