半導体レーザーによる分子性材料の新しい薄膜成長法 : 赤外線レーザーMBE法
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概要
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- 2009-05-30
著者
-
石田 洋一
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
鯉沼 秀臣
東工大応セラ研
-
鯉沼 秀臣
Tokyo Institute Of Technology
-
鯉沼 秀臣
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
-
鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
-
伊高 健治
東大工
-
伊高 健治
東京大学
-
伊高 健治
東京大学大学院 新領域創成科学研究科
-
伊高 健治
東京大学新領域創成科学研究科
-
鯉沼 秀臣
東京大学新領域創成科学研究科
-
鯉沼 秀臣
東京工大 応用セラミックス研
-
鯉沼 秀臣
東工大フロンティア共同研究センター
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