薄膜結晶成長における半導体レーザ応用の新展開
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概要
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We describe the use of continuous-wave semiconductor diode laser beam as a heating source in thin film deposition system. One of the examples is heating of organic materials for sublimation to replace conventional Knudsen cell. The other is heating of the substrate to very high temperature (>1000°C) which can hardly be achieved by conventional resistive or lamp heaters. Many of the advantages come from the pin-point heating on demand that is enabled by the excellent directionality of high power laser beam.
- 2008-05-01
著者
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川崎 雅司
理研cmrg:東北大金研
-
石田 洋一
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
鯉沼 秀臣
東工大応セラ研
-
鯉沼 秀臣
Tokyo Institute Of Technology
-
鯉沼 秀臣
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
-
鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
-
伊高 健治
東大工
-
伊高 健治
東京大学
-
伊高 健治
東京大学大学院 新領域創成科学研究科
-
伊高 健治
東京大学新領域創成科学研究科
-
川崎 雅司
東北大学 原子分子材料科学高等研究機構
-
鯉沼 秀臣
東京大学新領域創成科学研究科
-
鯉沼 秀臣
東京工大 応用セラミックス研
-
鯉沼 秀臣
東工大フロンティア共同研究センター
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