伊高 健治 | 東京大学新領域創成科学研究科

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概要

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• 同名の論文著者
• 東京大学新領域創成科学研究科の論文著者

関連著者

• 鯉沼 秀臣

  東京大学工学部工業化学科

• 伊高 健治

  東大工

• 伊高 健治

  東京大学

• 伊高 健治

  東京大学大学院 新領域創成科学研究科

• 伊高 健治

  東京大学新領域創成科学研究科

• 鯉沼 秀臣

  東京大学新領域創成科学研究科

• 石田 洋一

  東京工業大学 応用セラミックス研究所

• 鯉沼 秀臣

  東工大応セラ研

• 鯉沼 秀臣

  Tokyo Institute Of Technology

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• 鯉沼 秀臣

  東京工大 応用セラミックス研

• 鯉沼 秀臣

  東工大フロンティア共同研究センター

• 柳沼 誠一郎

  東京大学新領域創成科学研究科物質系専攻

• 川崎 雅司

  理研cmrg:東北大金研

• 南風盛 将光

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 伊高 健治

  科学技術振興機構,CREST

• 山城 貢

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 山口 潤

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 鯉沼 秀臣

  科学技術振興機構,CREST

• 鯉沼 秀臣

  科学技術振興機構 Crest:東京工業大学応用セラミックス研究所:物質・材料研究機構

• 川崎 雅司

  東北大学 原子分子材料科学高等研究機構

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著作論文

• 分子性材料薄膜成長中のRHEED強度振動(応用を視野においた有機半導体の結晶成長)
• バッファー成長法によるπ共役有機薄膜の高品質化(Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開)
• 薄膜結晶成長における半導体レーザ応用の新展開
• ナノマテリアルとコンビナトリアルケミストリー (特集 ナノテクノロジーの開発のための基盤技術)
• コンビナトリアル材料科学技術 : 10年間の進化と今後の展開
• 半導体レーザーによる分子性材料の新しい薄膜成長法 : 赤外線レーザーMBE法
• 固体物理学の周辺 コンビナトリアル固体化学と固体物理--酸化物・有機分子エレクトロニクス研究における展開

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