CAICISS(同軸型直衝突イオン散乱分光法)を用いた単結晶の最表面原子層制御
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概要
著者
-
石田 洋一
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
鯉沼 秀臣
東京工業大学工業材料研究所
-
鯉沼 秀臣
東工大工材研
-
鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
-
林 茂樹
島津製作所基盤技術研究所
-
石田 洋一
東京大学工学部
-
西野 茂
京都工芸繊維大学工芸学部
-
吉本 護
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
篠原 真
島津製作所 表面・半導体機器部
-
西原 隆治
島津製作所 表面・半導体機器部
-
更家 淳司
京都工芸繊維大学工芸学部
-
西野 茂弘
京都工芸繊維大学・工芸
-
西野 茂弘
京都工芸繊維大学大学院電子情報工学専攻
-
篠原 真
島津製作所
-
鯉沼 秀臣
(独)科学技術振興機構 研究開発戦略センター
-
鯉沼 秀臣
東京工業大学
-
更家 淳司
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
-
更家 淳司
京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科
-
吉本 譲
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
吉本 護
東京工業大学
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