更家 淳司 | 京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科

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概要

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関連著者

• 更家 淳司

  京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科

• 更家 淳司

  京都工芸繊維大学工芸学部

• 更家 淳司

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 吉本 昌宏

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 吉本 昌広

  京都工芸繊維大学大学院 電子システム工学部門

• 吉本 昌広

  京都工芸繊維大学地域共同研究センタｰ

• 吉本 昌広

  京都工芸繊維大学

• 松村 信男

  京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科

• 篠原 真

  島津製作所 表面・半導体機器部

• 篠原 真

  島津製作所

• 松村 信男

  京都工芸繊維大工芸

• 大谷 文彦

  島津製作所基盤技術研究所

• 大谷 文彦

  (株)島津製作所 基盤技術研究所

• 井上 恒一

  阪大理

• 邑瀬 和生

  阪大理

• 鈴木 幸司

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 浅利 正敏

  (株)島津製作所中央研究所

• 岡田 洋

  阪大理

• 石山 修

  (株)島津製作所 けいはんな研

• 篠原 真

  (株)島津製作所 けいはんな研

• 浅利 正敏

  構造解析研

• 石山 修

  島津製作所基盤技術研究所

• 山下 孝

  京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科

• 中野 隆生

  京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科

• 山下 孝

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 中野 隆生

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 田口 貢士

  (有)魁半導体

• 後藤 基貴

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 石田 洋一

  東京工業大学 応用セラミックス研究所

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学工業材料研究所

• 鯉沼 秀臣

  東工大工材研

• 鯉沼 秀臣

  東京大学工学部工業化学科

• 林 茂樹

  島津製作所基盤技術研究所

• 石田 洋一

  東京大学工学部

• 松波 弘之

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 松波 弘之

  京都大学工学部電気電子工学教室

• 西野 茂

  京都工芸繊維大学工芸学部

• 吉本 護

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 西原 隆治

  島津製作所 表面・半導体機器部

• 安井 俊之

  京都大学工学研究科電子物性工学専攻

• 松波 弘之

  京大工

• 松波 弘之

  京都大学工学部

• 西野 茂弘

  京都工芸繊維大学・工芸

• 西野 茂弘

  京都工芸繊維大学大学院電子情報工学専攻

• 黒部 立郎

  京都大学大学院工学研究科

• 林 茂樹

  構造解析研

• 鯉沼 秀臣

  (独)科学技術振興機構 研究開発戦略センター

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学

• 黒部 立郎

  京都大学工学研究科電子物性工学専攻

• 河 相勲

  京都大学工学研究科電子物性工学専攻

• 渡部 康弘

  京都大学工学研究科電子物性工学専攻

• 伊藤 満作

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 松村 信男

  京都工芸鐵維大学

• 大嶋 健文

  京都工芸鐵維大学

• 更家 淳司

  京都工芸鐵維大学

• 淀川 寛

  京都工芸鐵維大学

• 田口 貢士

  京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科

• 吉本 譲

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 吉本 護

  東京工業大学

• 吉本 昌宏

  京都工芸繊維大学大学院電子システム工学部門

• 松波 弘之

  京都大学工学研究科

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著作論文

• CAICISS(同軸型直衝突イオン散乱分光法)を用いた単結晶の最表面原子層制御
• 2p-D-9 ZnSxSe_ MBE薄膜のラマン散乱
• 3a-C-7 ZnSxSe1-x エピタキシャル薄膜のラマン散乱
• 28a-WB-6 Asクラスタイオンビーム照射によりAs終端したSi(100)表面のCAICISSによる評価
• 28a-WB-5 Asクラスタイオンビーム照射によるSi(100)基板表面のクリーニング
• 極低温走査型光学顕微鏡によるワイドギャップ半導体のディープサブミクロンホトルミネセンス像
• 極低温走査型光学顕微鏡によるワイドギャップ半導体のディープサブミクロンホトルミネセンス像
• 有機金属分子線エピタキシャル法による可視発光半導体GaAsPのSi基板上成長(平成9年度第3回)関西支部研究例会の講演要旨
• RF-MBE法によるInN/Siヘテロ接合の作製とバンドオフセットの測定
• RF-MBE法によるInN/Siヘテロ接合の作製とバンドオフセットの測定
• 有機液体原料を用いたリモートプラズマCVD法による低炭素濃度シリコン窒化膜の堆積
• ZnSeの光援助MBE成長 (2-6族半導体発光材料の物性と青色デバイス)
• GaAs基板上へのZnSSeの格子整合エピタキシ-
• CdTeの分子線エピタキシャル成長 : 表面・界面
• 有機液体原料を用いたラジカルビーム堆積法による低炭素濃度シリコン窒化膜の堆積(半導体エレクトロニクス)
• サブミクロン分解能を持つ極低温顕微ホトルミネセンス測定装置
• サブミクロン分解能を持つ極低温顕微ホトルミネセンス測定装置
• II-VI族半導体量子ドットの作製と発光デバイスへの応用
• CdTe Growth(ICVGE-7(第7回気相成長・エピタキシー国際会議))

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