石山 修 | 島津製作所基盤技術研究所

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概要

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• 島津製作所基盤技術研究所の論文著者

関連著者

• 篠原 真

  島津製作所 表面・半導体機器部

• 篠原 真

  島津製作所

• 石山 修

  島津製作所基盤技術研究所

• 大谷 文彦

  島津製作所基盤技術研究所

• 更家 淳司

  京都工芸繊維大学工芸学部

• 更家 淳司

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 大谷 文彦

  (株)島津製作所 基盤技術研究所

• 浅利 正敏

  (株)島津製作所中央研究所

• 石山 修

  (株)島津製作所 けいはんな研

• 篠原 真

  (株)島津製作所 けいはんな研

• 浅利 正敏

  構造解析研

• 更家 淳司

  京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科

• 西野 茂

  京都工芸繊維大学工芸学部

• 西原 隆治

  島津製作所 表面・半導体機器部

• 西野 茂弘

  京都工芸繊維大学・工芸

• 西野 茂弘

  京都工芸繊維大学大学院電子情報工学専攻

• 林 茂樹

  構造解析研

• 西野 茂弘

  京都工業繊維大学工芸学部

• 更家 淳司

  京都工業繊維大学工芸学部

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著作論文

• 28a-WB-6 Asクラスタイオンビーム照射によりAs終端したSi(100)表面のCAICISSによる評価
• 28a-WB-5 Asクラスタイオンビーム照射によるSi(100)基板表面のクリーニング
• CAICISSによる6H-Sic(0001)面の最表面原子層の決定
• 直衝突イオン散乱シミュレ-ションプログラムCOSCATの開発--EWS用CAICISSソフトウェアの開発 (小特集 新素材・半導体の分析・試験)

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