28a-WB-5 Asクラスタイオンビーム照射によるSi(100)基板表面のクリーニング
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1994-03-16
著者
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大谷 文彦
島津製作所基盤技術研究所
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大谷 文彦
(株)島津製作所 基盤技術研究所
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篠原 真
島津製作所 表面・半導体機器部
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更家 淳司
京都工芸繊維大学工芸学部
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浅利 正敏
(株)島津製作所中央研究所
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篠原 真
島津製作所
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石山 修
(株)島津製作所 けいはんな研
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篠原 真
(株)島津製作所 けいはんな研
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浅利 正敏
構造解析研
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石山 修
島津製作所基盤技術研究所
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更家 淳司
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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更家 淳司
京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科
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