更家 淳司 | 京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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概要
関連著者
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更家 淳司
京都工芸繊維大学工芸学部
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更家 淳司
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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更家 淳司
京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科
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吉本 昌宏
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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吉本 昌広
京都工芸繊維大学大学院 電子システム工学部門
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吉本 昌広
京都工芸繊維大学地域共同研究センタｰ
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吉本 昌広
京都工芸繊維大学
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篠原 真
島津製作所 表面・半導体機器部
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篠原 真
島津製作所
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大谷 文彦
島津製作所基盤技術研究所
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石山 修
島津製作所基盤技術研究所
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大谷 文彦
(株)島津製作所 基盤技術研究所
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西野 茂
京都工芸繊維大学工芸学部
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西原 隆治
島津製作所 表面・半導体機器部
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鈴木 幸司
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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西野 茂弘
京都工芸繊維大学・工芸
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浅利 正敏
(株)島津製作所中央研究所
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西野 茂弘
京都工芸繊維大学大学院電子情報工学専攻
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石山 修
(株)島津製作所 けいはんな研
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篠原 真
(株)島津製作所 けいはんな研
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浅利 正敏
構造解析研
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山下 孝
京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科
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中野 隆生
京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科
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山下 孝
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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中野 隆生
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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田口 貢士
(有)魁半導体
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後藤 基貴
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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石田 洋一
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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鯉沼 秀臣
東京工業大学工業材料研究所
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鯉沼 秀臣
東工大工材研
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鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
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林 茂樹
島津製作所基盤技術研究所
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石田 洋一
東京大学工学部
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松波 弘之
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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松波 弘之
京都大学工学部電気電子工学教室
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吉本 護
東京工業大学応用セラミックス研究所
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安井 俊之
京都大学工学研究科電子物性工学専攻
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松波 弘之
京大工
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松波 弘之
京都大学工学部
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松波 弘之
京都大学大学院工学研究科
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黒部 立郎
京都大学大学院工学研究科
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林 茂樹
構造解析研
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鯉沼 秀臣
(独)科学技術振興機構 研究開発戦略センター
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鯉沼 秀臣
東京工業大学
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西野 茂弘
京都工業繊維大学工芸学部
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更家 淳司
京都工業繊維大学工芸学部
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黒部 立郎
京都大学工学研究科電子物性工学専攻
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河 相勲
京都大学工学研究科電子物性工学専攻
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渡部 康弘
京都大学工学研究科電子物性工学専攻
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伊藤 満作
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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田口 貢士
京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科
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吉本 譲
東京工業大学応用セラミックス研究所
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吉本 護
東京工業大学
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吉本 昌宏
京都工芸繊維大学大学院電子システム工学部門
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松波 弘之
京都大学工学研究科
著作論文
- CAICISS(同軸型直衝突イオン散乱分光法)を用いた単結晶の最表面原子層制御
- 28a-WB-6 Asクラスタイオンビーム照射によりAs終端したSi(100)表面のCAICISSによる評価
- 28a-WB-5 Asクラスタイオンビーム照射によるSi(100)基板表面のクリーニング
- CAICISSによる6H-Sic(0001)面の最表面原子層の決定
- 極低温走査型光学顕微鏡によるワイドギャップ半導体のディープサブミクロンホトルミネセンス像
- 極低温走査型光学顕微鏡によるワイドギャップ半導体のディープサブミクロンホトルミネセンス像
- 有機金属分子線エピタキシャル法による可視発光半導体GaAsPのSi基板上成長(平成9年度第3回)関西支部研究例会の講演要旨
- アモルファス半導体材料の特性と応用 (アモルファス材料の応用開発を探る)
- RF-MBE法によるInN/Siヘテロ接合の作製とバンドオフセットの測定
- RF-MBE法によるInN/Siヘテロ接合の作製とバンドオフセットの測定
- 有機液体原料を用いたリモートプラズマCVD法による低炭素濃度シリコン窒化膜の堆積
- 有機液体原料を用いたラジカルビーム堆積法による低炭素濃度シリコン窒化膜の堆積(半導体エレクトロニクス)
- サブミクロン分解能を持つ極低温顕微ホトルミネセンス測定装置
- サブミクロン分解能を持つ極低温顕微ホトルミネセンス測定装置
- CdTe Growth(ICVGE-7(第7回気相成長・エピタキシー国際会議))