鯉沼 秀臣 | 東京工業大学

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概要

• 鯉沼 秀臣の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 東京工業大学の論文著者

関連著者

• 鯉沼 秀臣

  東京大学工学部工業化学科

• 石田 洋一

  東京工業大学 応用セラミックス研究所

• 鯉沼 秀臣

  東工大工材研

• 石田 洋一

  東京大学工学部

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学工業材料研究所

• 鯉沼 秀臣

  東工大応セラ研

• 福村 知昭

  東北大金研:科技機構さきがけ

• 鯉沼 秀臣

  東京大学新領域創成科学研究科

• 川崎 雅司

  東工大総理工

• 川崎 雅司

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 瀬川 勇三郎

  理研CMRG

• 牧野 哲征

  東北大WPI材料機構

• 牧野 哲征

  理研PDC

• 瀬川 勇三郎

  Photodynamics Research Center The Institute Of Physical And Chemical Research (riken)

• 川崎 雅司

  東北大金研

• Lippmaa Mikk

  東大 物性研

• 大友 明

  東工大院工:東北大金研

• 瀬川 勇三郎

  理研PDC

• 長谷川 哲也

  東大理

• 鯉沼 秀臣

  東工大フロンティア

• 福村 知昭

  東工大総理工

• 長谷川 哲也

  東大

• 中川 直之

  東工大総理工

• Lippmaa Mikk

  東工大総理工

• 中川 直之

  東大物性研

• 長谷川 哲也

  東工大応セラ研

• 山下 努

  長岡技術科学大学工学部

• 石井 守

  日本セメント(株)中央研究所

• 高田 雅介

  長岡技術科学大学電気系

• 吉本 護

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 神田 直樹

  東京工業大学応用セラミクス研究所

• 長谷川 哲也

  東京大学大学院理学系研究科化学専攻

• 松本 祐司

  東京工大 応用セラミックス研

• 土屋 龍太

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 福村 知昭

  東北大金研

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 須崎 嘉文

  香川大学工学部

• 末永 智郁

  東工大フロンティア

• 范 暁娟

  東工大フロンティア

• 趙 小如

  東工大フロンティア

• 影山 剛史

  東工大応セラ研

• 大友 明

  東工大総理工

• 庄野 知至

  東工大応セラ研

• 鹿間 共一

  高松工業高等専門学校

• 田中 健一

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 笛木 和雄

  東京理科大学理工学部

• 井手本 康

  東理大理工

• 中村 剛志

  東理大理工

• 永田 俊郎

  川鉄鉱業(株)技術研究所

• 大友 明

  東北大金研

• 鯉田 崇

  ERATO

• 松本 祐司

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 大西 剛

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 川崎 雅司

  東北大学金属材料研究所

• 大西 剛

  米国ローレンスバークレー国立研究所

• 長谷川 哲也

  東工大フロンティア

• 福村 知昭

  東工大総合理工

• 川崎 雅司

  東工大総合理工

• 金 政武

  東工大総理工

• 大谷 亮

  東北大金研

• 宮崎 香織

  東京工業大学応用セラミック研究所

• 高橋 和浩

  (株)信光社

• 渋谷 圭介

  東工大総理工

• 大谷 亮

  東工大総理工

• 田中 健一

  東大先端研

• 大西 剛

  東大物性研

• LIPPMAA Mikk

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 永田 俊郎

  川鉄鉱業 技研

• 和田 恭雄

  東洋大学バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター

• 筒井 謙

  東洋大学バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター

• 原田 研

  日立製作所基礎研究所

• 尾嶋 正治

  東大工

• 十倉 好紀

  JRCAT

• 荻本 泰史

  JRCAT

• 木村 剛

  JRCAT(Joint Research Center for Atom Technology)

• 笛木 和雄

  東京大学工学部工業化学科

• 松原 秀彰

  (財)ファインセラミックスセンター 材料技術研究所

• 水野 潤

  早稲田大学理工学術院ナノ理工学専攻

• 羽田 肇

  物質・材料研究機構

• 羽田 肇

  無機材質研究所

• 羽田 肇

  物質・材料研究機構物質研究所 電子セラミックスグループ

• 中村 剛

  東理大理工

• 永田 俊郎

  川崎鉱業(株)

• 佐々木 基

  東京大学工学部工業化学科

• 川崎 雅司

  関東学院大学工学部機械工学科

• 高井 治

  関東学院大学工学部機械工学科

• 水崎 純一郎

  横浜国立大学環境科学研究センター

• 川崎 雅司

  東京大学工学部工業化学科

• 竹内 巧

  東京大学工学部工業化学科

• 増淵 清美

  材料科学技術振興財団

• 工藤 正博

  材料科学技術振興財団

• 鯉沼 秀臣

  Tokyo Institute Of Technology

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• 荻本 泰史

  東大先端研:jst-crest:富士電機ホールディングス(株)

• 佐藤 弘

  産総研・強相関電子技術セ

• 赤穂 博司

  産総研・強相関電子技術セ

• 米屋 勝利

  横浜国立大学

• 和田 隆博

  松下電器産業(株)中央研究所

• 澤野 清志

  セラミックス編集委員

• 瀬川 勇三郎

  理化学研究所フォトダイナミクス研究センター

• 瀬川 勇三郎

  理研フォトダイナミクス研究センター

• 外村 彰

  日立基礎研

• 北澤 宏一

  東京大学新領域創成科学研究科

• 羽田 肇

  セラミックス編集委員

• 久留島 守広

  工業技術院産業科学技術研究室

• 古賀 和憲

  京セラ(株) 総合研究所

• 塩見 治久

  京都工芸繊維大学 工芸学部

• 西尾 英昭

  品川白煉瓦(株) 技術開発センター

• 廣瀬 哲

  日本セメント(株) 中央研究所セメント・コンクリート研究部

• 鹿野 弘

  セラミックス編集委員

• 榊 裕之

  東京大学生産技術研究所

• 榊 裕之

  東京大学先端科学技術研究センター

• 西尾 博明

  明治大学理工学部

• 安藤 功兒

  電総研

• 林 茂樹

  島津製作所基盤技術研究所

• 角谷 正友

  静岡大学工学部

• 野田 武司

  生産研

• 永宗 靖

  電子技術総合研究所

• 関根 松夫

  東京工業大学大学院 総理工

• 筒井 謙

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 松本 祐司

  東工大応セラ研

• 村上 真

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• 広中 清一郎

  東京都市大学

• 西野 茂

  京都工芸繊維大学工芸学部

• 広中 清一郎

  東京工業大学工学部無機材料工学科

• 大橋 智

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 白石 正

  東海大学工学部通信工学科

• 白石 正

  東海大学工学部

• 川崎 雅司

  東工大応セラ研

• 大友 明

  東工大応セラ研

• 長谷川 哲也

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• 松本 祐司

  東工大フロンティア

• 村上 真

  東工大フロンティア

• 高橋 竜太

  東工大フロンティア

• 齋藤 美紀子

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 齋藤 美紀子

  早大

• 水野 潤

  早大院・ナノ理工

• 江面 知彦

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 徳田 正秀

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 小野里 陽正

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 小泉 寿子

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 和田 恭雄

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 南風盛 将光

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 篠原 真

  島津製作所 表面・半導体機器部

• 西原 隆治

  島津製作所 表面・半導体機器部

• 更家 淳司

  京都工芸繊維大学工芸学部

• 浅川 寿昭

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 中川 清

  香川大学

• 福村 知昭

  東北大学金属材料研究所

• ユー ヨンジョ

  東工大応セラ研

• 長谷川 邦明

  東工大総理工

• 岩井 裕

  長岡工高専

• 大澤 健男

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 大津 元一

  東京工業大学

• 和田 恭雄

  早稲田大学 ナノテクノロジー研究所

• 羽田 肇

  科学技術庁無機材質研究所

• 大口 浩之

  東大工

• 鯉田 崇

  東工大フロンティア研

• 斎藤 秀和

  電総研

• Yoo Y.

  ローレンスバークレー国立研

• Duewer F.

  ローレンスバークレー国立研

• Xiang X.

  ローレンスバークレー国立研

• 鯉田 崇

  東工大応セラ研

• 福村 知昭

  東京大学大学院工学系研究科応用化学科・超伝導工学専攻

• 菅原 宏治

  東京大学大学院工学系研究科応用化学科・超伝導工学専攻

• 北沢 宏一

  東京大学大学院工学系研究科応用化学科・超伝導工学専攻

• 田中 健一

  東京大学先端科学技術研究所

• 永宗 靖

  東京大学先端科学技術研究所

• 野田 武司

  東京大学先端科学技術研究所

• 田口 仁

  TDK(株)基礎材料研究所

• 中川 準

  TDK(株)基礎材料研究所

• 西尾 博明

  TDK(株)基礎材料研究所

• 永宗 靖

  電総研

• 菅原 宏治

  東京都立科学技術大学

• 中川 準

  Tdk(株) 基礎材料研究所

• 原田 研

  日立基礎研

• 斎藤 秀和

  産総研

• 原田 研

  日立基礎研究所

• 瀬川 勇三郎

  理研フォトダイナミクス

• 瀬川 勇三郎

  理化学研究所

• 西野 茂弘

  京都工芸繊維大学・工芸

• 安藤 功兒

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 西野 茂弘

  京都工芸繊維大学大学院電子情報工学専攻

• 外村 彰

  日立製作所基礎研究所

• 水野 潤

  早稲田大学ナノ理工学研究機構

• 高井 治

  関東学院大 工

• 羽田 肇

  物質・材料研究機構センサ材料センター

• 中村 仁

  (株)信光社

• 鯉沼 秀臣

  無機材質研究所コンビナトリアルマテリアル科学技術プロジェクト

• 高橋 和浩

  東京工業大学工業材料研究所

• 原田 研

  日立 基礎研

• 篠原 真

  島津製作所

• 西尾 英昭

  品川白煉瓦株式会社技術開発センター

• 北澤 宏一

  東京大学新領域創成科学研究所

• 鯉沼 秀臣

  科学技術振興機構 Crest:東京工業大学応用セラミックス研究所:物質・材料研究機構

• 松田 元秀

  岡山大学環境管理センター

• 大津 元一

  東京工業大学総理工

• 謝 振豪

  東北大理

• 磯谷 玄

  理研PDC

• 安田 隆

  石専大理工

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著作論文

• 23pZF-8 ステップフロー成長によるMn系ペロブスカイト縦型超格子の作製とその電気特性
• 26pYT-12 La_Sr_xMnO_3薄膜の作製とPhotoelectron Yield Spectroscopyによる表面電子状態の観察
• フッ素ドープ酸化亜鉛透明導電膜の低温合成(酸化物系導電セラミックス)(導電性セラミックス)
• Yb-Ba-Cr-O系高温超伝導薄膜の作製と構造解析
• セラミスト放談会 「研究開発の展開, 研究者の育成」
• 23pTB-1 アナターゼ TiO_2 薄膜における吸収スペクトルの温度依存性
• 酸化物エレクトロニクス
• 分子エレクトロニクス用マイクロギャップ平坦電極の作製
• CAICISS(同軸型直衝突イオン散乱分光法)を用いた単結晶の最表面原子層制御
• イオンプレーティングC_フラーレン薄膜の摩擦特性と膜強度
• 22pTJ-7 走査型 SQUID 顕微鏡を用いたパイロクロア型モリブデン酸化物の磁区構造観察
• 29aPS-12 走査型 SQUID を用いたパイロクロア型モリブデン酸化物 Sm_2Mo_2O_7 の磁区構造観察
• 27pYM-1 Crドープマンガン酸化物薄膜の走査SQUID顕微鏡測定
• 23aK-2 希薄磁性酸化物半導体Zn_Mn_xO薄膜の磁気特性
• コンビナトリアルPLD-表面分析複合装置の開発とアナターゼTiO_2エピタキシャル薄膜のナノスケール表面修飾
• コンビナトリアルケミストリーによる無機材料のハイスループット開発
• 透明希薄磁性酸化物 : コンビナトリアル技術による探索
• 27pYB-12 ペロブスカイトマンガン酸化物のナノ構造構築と界面スピンフラストレーション制御
• 23aSF-12 反強磁性層埋め込みによるマンガン酸化物のスピンフラストレーション制御
• 23pSB-3 酸化物希薄磁性半導体Zn_TM_xO(TM:遷移金属)の磁気光学スペクトル
• 23pZF-10 Composition-Spread Mn酸化物薄膜の走査SQUID顕微鏡測定
• 23pZF-9 Composition-spread Mn酸化物薄膜の構造・磁気特性の高速評価
• 温度可変型走査型ホール素子顕微鏡による強磁性体および高温超伝導体の磁場分布観察
• 30aPS-29 ZnO/(Mg,Zn)O多重量子井戸における励起子発光の温度消光(領域5ポスターセッション)(領域5)
• 電子線干渉縞11,000本の記録
• 完全エピタキシーを目指した金属酸化物基板の原子レベル表面制御
• レ-ザ-分子線エピタキシ-法による酸化物薄膜の分子層制御
• コンビナトリアル : もの作り日本再生の革新技術
• 固体材料・デバイス開発の集積化技術
• 新機能の宝庫・酸化物
• コンビナトリアル固体材料開発のコンセプトと研究状況 (特集 コンビナトリアル・ケミストリー)
• Combinatorial Chemistry--材料開発の新しい方法論
• 量子力学の物理から化学へ--材料科学の新たな展開 (特集 化学の1900年代--次世代に語り継ぐべきこと)
• 新材料開発における創造戦略
• アモルファスシリコンの光誘起変化 - レーザー脱離飛行時間質量分析による解析 -
• レーザーMBE法による酸化物研究の新展開
• 大気圧低温HeプラズマによるZnO薄膜の作製における原料加熱の効果
• 大気圧開放下で発生させた低温プラズマによるZnO薄膜の作製
• 大気圧低温プラズマを用いたZnO薄膜の作製
• 26pYC-4 格子整合基板上に成膜したZnO薄膜における光学スペクトルの温度変化
• 28pYF-9 ZnO : Al 薄膜の光学的性質 : 室温多体吸収端特異性の観測?
• 30pYH-10 ZnO/ZnMgO 量子井戸における内部電場効果
• コンビナトリアル酸化亜鉛超格子研究
• 29a-ZG-8 ZnO半導体薄膜構造における励起子共鳴四光波混合スペクトル
• 表面・界面研究の泣きどころ・勘どころ : 試料・評価の多次元化による技術革新
• 人工格子技術が開くセラミックス科学の新しい世界
• 高温超伝導体積層型SISジョセフソン接合と酸化物界面工学
• ジョセフソントンネル接合作製のための酸化物格子工学
• YBCO薄膜の結晶成長と粒子発生機構
• 科学技術の進歩を"かたち"にする固体材料化学 (〔現代化学〕創刊400号記念特集 世界をリードする日本の化学)
• エレクトロニクスの進歩と化学 (特集:エレクトロニクスの最先端とナノケミストリー)
• 高分子はメジャーになりえたか
• パターン化されたYBa_2Cu_3O_薄膜の非平衡な光応答
• 球状ナノ分子 C_ の合成と薄膜化 ( ミクロを創る 4.重合体-1)
• セラミックス格子工学技術の現状と可能性
• 偏光の反射測定によるプラズマプロセスのその場観察
• 29aPS-12 走査型 SQUID を用いたパイロクロア型モリブデン酸化物 Sm_2Mo_2O_7 の磁区構造観察
• レーザーMBE法による無限層酸化物薄膜の二次元エピタキシャル成長と電気特性制御
• 大気圧非平衡プラズマの生成とエッチングとアッシングへの応用
• 研究速報 : Ti-Ni形状記憶合金におよぼす水素の影響（3） : 通電加熱方式による形状記憶サイクル繰り返し試験機の製作及び基礎データ
• 研究速報 : Bi系酸化物超伝導体(001)ねじり粒界のジョセフソン接合特性
• 研究速報 : 液体窒素温度のトリチウム透過電顔オートラジオグラフィ（2） : 界面からずれた黒化銀粒子の解析
• 7p-J-16 レーザーMBE製作ZnO薄膜の室温励起子レーザー発振
• Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-O系超伝導酸化物の構造と物性
• 21世紀エレクトロニクス・デバイス材料
• 高温超伝導 : 夢の現状と行方
• Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-O系セラミックスの熱処理による超伝導性の低下
• Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-Oセラミックスの作製プロセスと超伝導特性
• 高温超伝導厚膜を用いた磁気シールドの作製
• MBE法による超伝導薄膜の作製とキャラクタリゼ-ション (酸化物超伝導体薄膜の作製法)
• スパッタリング法によるBi-Sr-Ca-Cu-O薄膜作成プロセスにおける熱処理の影響 (酸化物系超伝導物質と材料) -- (一般投稿)

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