和田 恭雄 | 早稲田大学 ナノテクノロジー研究所
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概要
関連著者
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和田 恭雄
早稲田大学 ナノテクノロジー研究所
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和田 恭雄
東洋大学バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター
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筒井 謙
東洋大学バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター
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筒井 謙
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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江面 知彦
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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和田 恭雄
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
-
徳田 正秀
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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宇高 勝之
早稲田大学理工学部
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本田 惣一朗
早稲田大学理工学部
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武 志剛
早稲田大学理工学部
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宇高 勝之
早稲田大学大学院理工学研究科
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宇高 勝之
早稲田大学
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宇高 勝之
早稲田大学理工学術院
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松井 純哉
早稲田大学理工学術院
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中村 一彦
早稲田大学 理工学部
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中村 一彦
早稲田大学理工学部
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和田 恭雄
早稲田大 ナノテクノロジー研
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才田 大輔
東京大学生産技術研究所
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高橋 琢二
東京大学生産技術研究所
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水野 潤
早稲田大学理工学術院ナノ理工学専攻
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鯉沼 秀臣
東京工業大学工業材料研究所
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鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
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齋藤 美紀子
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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齋藤 美紀子
早大
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水野 潤
早大院・ナノ理工
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小野里 陽正
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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小泉 寿子
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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南風盛 将光
東京工業大学応用セラミックス研究所
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水野 潤
早稲田大学ナノ理工学研究機構
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鯉沼 秀臣
科学技術振興機構 Crest:東京工業大学応用セラミックス研究所:物質・材料研究機構
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鯉沼 秀臣
東京工業大学
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水野 潤
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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水野 潤
早稲田大学 ナノ理工学研究機構
-
水野 潤
早稲田大学
著作論文
- 分子エレクトロニクス用マイクロギャップ平坦電極の作製
- シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価
- シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価
- 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価
- シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価
- 磁気力顕微鏡を利用した電流誘起磁場測定における電流定量評価の可能性(計測・高周波デバイス)
- 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- 磁気力顕微鏡を利用した電流誘起磁場測定系の空間分解能の評価(計測・高周波デバイス)
- 分子デバイスの現状と展望
- ナノテクノロジーと科学技術のフロンティア
- [招待講演]分子ナノエレクトロニクスの展望
- 単一分子デバイス研究 その最前線と課題--15年後のコンピュータ実現に向けて