江面 知彦 | 早稲田大学ナノテクノロジー研究所

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概要

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• 同名の論文著者
• 早稲田大学ナノテクノロジー研究所の論文著者

関連著者

• 和田 恭雄

  東洋大学バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター

• 筒井 謙

  東洋大学バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター

• 江面 知彦

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 筒井 謙

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 和田 恭雄

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 和田 恭雄

  早稲田大学 ナノテクノロジー研究所

• 徳田 正秀

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 宇高 勝之

  早稲田大学理工学部

• 本田 惣一朗

  早稲田大学理工学部

• 武 志剛

  早稲田大学理工学部

• 宇高 勝之

  早稲田大学大学院理工学研究科

• 宇高 勝之

  早稲田大学

• 宇高 勝之

  早稲田大学理工学術院

• 松井 純哉

  早稲田大学理工学術院

• 中村 一彦

  早稲田大学 理工学部

• 中村 一彦

  早稲田大学理工学部

• 池田 進

  東北大 理GCOE

• 島田 敏宏

  東京大学大学院理学系研究科

• 島田 敏宏

  東大院理

• 池田 進

  東大院新領域

• 斉木 幸一朗

  東大院新領域

• 筒井 謙

  早大ナノテク研

• 江面 知彦

  早大ナノテク研

• 寺嶋 和夫

  東大院新領域

• 和田 恭雄

  早大ナノテク研

• 才田 大輔

  東京大学生産技術研究所

• 高橋 琢二

  東京大学生産技術研究所

• 池田 進

  高エネルギー研

• Shimada T

  National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)

• 寺嶋 和夫

  東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系専攻

• 宮副 裕之

  東京大学大学院新領域創成科学研究科

• 斉木 幸一朗

  東大 新領域

• 水野 潤

  早稲田大学理工学術院ナノ理工学専攻

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学工業材料研究所

• 鯉沼 秀臣

  東京大学工学部工業化学科

• 船津 高志

  東京大学大学院薬学系研究科

• 船津 高志

  東京大学大学院薬学系研究科生体分析化学教室

• 白崎 善隆

  早大院・生命理工

• 庄子 習一

  早大院・ナノ理工

• 船津 高志

  早大院・生命理工

• 船津 高志

  国立感染症研究所

• 齋藤 美紀子

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 齋藤 美紀子

  早大

• 水野 潤

  早大院・ナノ理工

• 杉野 弘和

  早大院・生命理工

• 庄子 習一

  早大・理工・電生

• 小野里 陽正

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 小泉 寿子

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 南風盛 将光

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 杉野 弘和

  東大・院薬

• 伊藤 義泰

  リガク

• 水野 潤

  早稲田大学ナノ理工学研究機構

• 稲葉 克彦

  リガク

• 宮副 裕之

  東大院新領域

• 和田 恭雄

  文部省・早大カスタムナノ

• 筒井 謙

  文部省・早大カスタムナノ

• 江面 知彦

  文部省・早大カスタムナノ

• 白崎 善隆

  かずさdna研

• 鯉沼 秀臣

  科学技術振興機構 Crest:東京工業大学応用セラミックス研究所:物質・材料研究機構

• 稲葉 克彦

  株式会社リガク

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学

• 庄子 習一

  早稲田大学理工学部電気 情報生命工学科

• 船津 高志

  東大・院薬

• 水野 潤

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 水野 潤

  早稲田大学 ナノ理工学研究機構

• 水野 潤

  早稲田大学

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著作論文

• 分子エレクトロニクス用マイクロギャップ平坦電極の作製
• シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価
• シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価
• 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
• シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価
• シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価
• 25aYC-11 有機グラフォエピタキシーの基板依存性から見たその成長機構(25aYC ナノチューブ・ナノワイヤ・結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 28pXJ-9 人工周期構造を持つ熱酸化シリコン基板上におけるsexithiopheneの面内選択配向成長(28pXJ 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 磁気力顕微鏡を利用した電流誘起磁場測定における電流定量評価の可能性(計測・高周波デバイス)
• 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
• 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
• 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
• 磁気力顕微鏡を利用した電流誘起磁場測定系の空間分解能の評価(計測・高周波デバイス)
• 2P297 温感性ハイドロゲルを用いたマイクロソーターの改良(バイオエンジニアリング)

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