シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価
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概要
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- 2007-01-22
著者
-
和田 恭雄
東洋大学バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター
-
筒井 謙
東洋大学バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター
-
宇高 勝之
早稲田大学理工学部
-
筒井 謙
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
-
江面 知彦
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
-
徳田 正秀
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
-
和田 恭雄
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
-
宇高 勝之
早稲田大学理工学術院
-
松井 純哉
早稲田大学理工学術院
-
本田 惣一朗
早稲田大学理工学部
-
武 志剛
早稲田大学理工学部
-
和田 恭雄
早稲田大学 ナノテクノロジー研究所
-
宇高 勝之
早稲田大学大学院理工学研究科
-
宇高 勝之
早稲田大学
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