深堀エッチングによるシリコン導波路上ブラッググレーティングのフィルタ特性改善(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
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概要
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WDMによる通信容量の増大に伴い,SOI (Silicon on Insulator)基板上Si導波路を用いた低コストかつ高機能な光デバイスが注目されている.我々はこれまでにDeep-RIEによって作製した高結合係数Siグレーティングにより,WDM用インターリーバとして機能するマイケルソン干渉計型フィルタを実現している.今回,ラフネスの少ない深堀グレーティングを作製することで約25dBの透過コントラスト,約6nmの帯域幅が得られ,グレーティング特性の大幅な向上を行うことができたので報告する.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-01-22
著者
-
宇高 勝之
早稲田大学理工学部
-
宇高 勝之
早稲田大学理工学術院
-
松井 純哉
早稲田大学理工学術院
-
高橋 洋樹
早稲田大学理工学術院
-
謝 楠
早稲田大学理工学術院
-
宇高 勝之
早稲田大学大学院理工学研究科
-
宇高 勝之
早稲田大学
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