寺嶋 和夫 | 東大院新領域
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概要
関連著者
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寺嶋 和夫
東大院新領域
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寺嶋 和夫
東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系専攻
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和田 恭雄
東洋大学バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター
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池田 進
東北大 理GCOE
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島田 敏宏
東京大学大学院理学系研究科
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島田 敏宏
東大院理
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池田 進
東大院新領域
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斉木 幸一朗
東大院新領域
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和田 恭雄
早大ナノテク研
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池田 進
高エネルギー研
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Shimada T
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)
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筒井 謙
東洋大学バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター
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斉木 幸一朗
東大 新領域
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江面 知彦
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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伊藤 義泰
リガク
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筒井 謙
早大ナノテク研
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江面 知彦
早大ナノテク研
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稲葉 克彦
リガク
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稲葉 克彦
株式会社リガク
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宮副 裕之
東京大学大学院新領域創成科学研究科
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和田 恭雄
東洋大 学際・融合
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宮副 裕之
東大院新領域
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伊藤 剛仁
東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系
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藤原 秀行
東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系
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片平 研
東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系
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伊藤 剛仁
東大院新領域
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藤原 秀行
東大院新領域
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苫居 高明
東大院新領域
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片平 研
東大院新領域
著作論文
- 25aYC-11 有機グラフォエピタキシーの基板依存性から見たその成長機構(25aYC ナノチューブ・ナノワイヤ・結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28pXJ-9 人工周期構造を持つ熱酸化シリコン基板上におけるsexithiopheneの面内選択配向成長(28pXJ 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aRJ-12 グラフォエピタキシーによる有機半導体薄膜の配向制御とFETへの応用(有機FET1,領域7,分子性固体・有機導体)
- 3 超臨界流体中のナノプラズマ生成(シンポジウムIII : マイクロプラズマ研究の最近の進展)