原田 研 | 日立製作所基礎研究所
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概要
関連著者
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原田 研
日立製作所基礎研究所
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鈴木 芳生
高輝度光科学研究センター SPring-8
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竹内 晃久
高輝度光科学研究センター SPring-8
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石田 洋一
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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鯉沼 秀臣
東京工業大学工業材料研究所
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鯉沼 秀臣
Tokyo Institute Of Technology
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鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
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外村 彰
日立基礎研
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北澤 宏一
東京大学新領域創成科学研究科
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石田 洋一
東京大学工学部
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竹内 晃久
(財)高輝度光科学研究センター
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鈴木 芳生
(財)高輝度光科学研究センター
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鈴木 芳生
(株)日立製作所中央研究所
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鈴木 芳生
Jasri
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鈴木 芳生
Spring-8 財団法人高輝度光科学研究センター
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原田 研
日立基礎研
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竹内 晃久
Jasri/spring-8
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原田 研
日立基礎研究所
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外村 彰
日立製作所基礎研究所
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原田 研
日立 基礎研
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北澤 宏一
東京大学新領域創成科学研究所
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鯉沼 秀臣
(独)科学技術振興機構 研究開発戦略センター
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鯉沼 秀臣
東京工業大学
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北沢 宏一
東京大学大学院
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竹内 晃久
高輝度光科学研究センター
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鈴木 芳生
高輝度光科学研究セ
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鈴木 芳生
株式会社日立製作所情報・通信システム社経営戦略室
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鈴木 芳夫
高輝度光科学研究センター
著作論文
- 20aHS-10 ダブルプリズム干渉計によるX線ホログラフィー顕微鏡(20aHS X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 電子線干渉縞11,000本の記録
- ローレンツ顕微鏡法