佐藤 弘 | 産総研・強相関電子技術セ
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概要
関連著者
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佐藤 弘
産総研・強相関電子技術セ
-
赤穂 博司
産総研・強相関電子技術セ
-
佐藤 弘
独立行政法人産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
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赤穂 博司
産業技術総合研究所 強相関電子研究センター
-
赤穗 博司
産総研CERC
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川崎 雅司
産総研・強相関電子技術セ
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石井 裕司
東工大理工
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佐藤 弘
電子技術総合研究所
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十倉 好紀
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC)
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山田 寿一
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC)
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井上 公
産業技術総合研究所 強相関電子研究センター
-
山田 寿一
産総研
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石井 裕司
東工大理
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山田 浩之
産総研
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赤穂 博司
電子技術総合研究所
-
十倉 好紀
産総研・強相関電子技術セ:東大工
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山田 寿一
産総研・強相関電子技術セ
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井上 公
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC)
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高木 英典
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC)
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石井 裕司
産総研CERC
-
山田 浩之
産総研・強相関電子技術セ
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石井 裕司
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC)
-
上野 和紀
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC)
-
小田川 明弘
産総研・強相関電子技術研究センター:松下電器産業
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金子 良夫
ERATO
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宝川 幸司
神奈川工科大工学部
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澤 彰仁
産総研・強相関電子技術研究センタ-
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赤穗 博司
産業技術総合研究所強相関電子技術研究センター
-
宝川 幸司
神奈川工科大学工学部
-
上野 和紀
東北大学原子分子材料科学高等研究機構
-
赤穂 博司
産業技術総合研究所強相関電子技術研究センター
-
貴田 徳明
ERATO・マルチフェロイックス
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川崎 雅司
産総研CERC
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小田川 明弘
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC)
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山田 寿一
産総研光技術
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佐藤 弘
産総研CERC
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藤本 英司
産総研cerc:jst-crest
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十倉 好紀
ERATO-MF
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松原 正和
産総研
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佐藤 広海
理研
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仲川 博
独立行政法人産業技術総合研究所
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于 秀珍
物材機構-ancc
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菅野 勉
松下先端技術
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四橋 聡史
パナソニック(株)先端技術研究所
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十倉 好紀
産総研CERC
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有馬 孝尚
ERATO-SSS
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松原 正和
産総研・強相関電子技術セ
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金子 良夫
Erato-mf
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赤穂 博司
産総研CERC
-
澤 彰仁
産総研CERC
-
于 秀珍
ERATO-ESS
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井上 公
産総研CERC
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小田川 明弘
産総研CERC
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石井 祐司
産総研CERC
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足立 秀明
松下先端技研
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四橋 聡史
松下先端技術
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足立 秀明
松下電器産業(株)先端技術研究所
-
足立 秀明
松下電器産業先端研
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佐藤 弘
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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Gjoen Stein
Electrotechnical Laboratory
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Gjoen Stein
電子技術総合研究所
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中村 徳人
千葉工業大学
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足立 秀明
松下電器 先端研
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十倉 好紀
ERATO : 産総研GERG : JRCAT : 東大工
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菅野 勉
松下先端技研
-
四橋 聡史
松下先端技研
-
山本 寛
日本大学理工学部
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澤 彰仁
産総研
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赤穂 博司
産総研強相関セ
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十倉 好紀
産総研ナノ機能合成プロ
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石田 洋一
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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青柳 昌宏
独立行政法人産業技術総合研究所
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鯉沼 秀臣
東京工業大学工業材料研究所
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鯉沼 秀臣
東工大工材研
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鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
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Lippmaa Mikk
東大 物性研
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川崎 雅司
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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山口 博隆
電総研
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大柳 宏之
電総研
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何 金萍
ERATO-MF
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十倉 好紀
産総研強相関電子技術研究センター
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赤穂 博司
電総研
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佐藤 弘
電総研
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赤穗 博司
産総研
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川崎 雅司
ERATO-MF
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貴田 徳明
科技構・ERATO
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有馬 孝尚
科技構・ERATO
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十倉 好紀
科技構・ERATO
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石井 裕司
産総研
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石井 裕司
産総研強相関電子技術研究センター(CERC)
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山田 浩之
産総研強相関電子技術研究センター(CERC)
-
澤 彰仁
産総研強相関電子技術研究センター(CERC)
-
佐藤 弘
産総研強相関電子技術研究センター(CERC)
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山田 寿一
産総研強相関電子技術研究センター(CERC)
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川崎 雅司
産総研強相関電子技術研究センター(CERC)
-
土倉 好紀
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC)
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山口 浩
独立行政法人産業技術総合研究所エネルギー技術研究部門
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山口 博隆
産総研
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川邊 潮
千葉工業大学大学院 工学研究科
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川邊 潮
千葉工大
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何 金萍
Erato-jst
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小原 春彦
電総研
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高田 進
埼玉大学大学院理工学研究科
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所 和彦
産業技術総合研究所つくば中央第二事業所
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石田 洋一
東京大学工学部
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澤 彰仁
電総研
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高田 進
電子技術総合研究所
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井上 公
JST
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菅野 勉
JST
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四橋 聡史
産総研CERC
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于 秀珍
松下先端技研
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金子 良夫
松下先端技研
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赤穂 博司
ERATO-SSS
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于 秀珍
ATRL-Matsushita Electric Ind. Co. Ltd.
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金子 良夫
ATRL-Matsushita Electric Ind. Co. Ltd.
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藤本 英司
産総研・強相関電子技術研究センタ-
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青柳 昌宏
独立行政法人 産業技術総合研究所
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菊地 克弥
独立行政法人産業技術総合研究所
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中島 勉
神奈川工科大学
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佐藤 弘
産業技術総合研究所強相関電子技術研究センター
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藤本 英司
産業技術総合研究所強相関電子技術研究センター
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富岡 章
千葉工業大学
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小原 春彦
独立行政法人 産業技術総合研究所
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宝川 幸司
神工大工学部
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宮川 隆二
熊本県工業技術センター
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佐藤 勇一郎
株式会社神和開発部
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LIPPMAA Mikk
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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幸坂 紳
電総研
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土屋 龍太
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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所 和彦
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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赤穗 博司
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
原 宏
千葉工業大学
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鯉沼 秀臣
(独)科学技術振興機構 研究開発戦略センター
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鯉沼 秀臣
東京工業大学
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何 金薄
ERATO-SSS
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藤本 英司
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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佐藤 弘
工業技術院電子技術総合研究所
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赤穂 博司
工業技術院電子技術総合研究所
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金田 孝彦
日本大学
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山田 寿一
産業技術融合領域研究所
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金子 丁士
神奈川工科大学
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幸坂 紳
独立行政法人 産業技術総合研究所
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鬼沢 忠
神奈川工科大学
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赤穗 博司
電子技術総合研究所
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山本 寛
日本大学
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織田澤 孝
神奈川工科大学
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十倉 好紀
産総研-CERC
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青柳 昌宏
東京理科大学大学院:独立行政法人産業技術総合研究所
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郎 豊群
独立行政法人産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
-
山口 浩
独立行政法人産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
-
川邊 潮
千葉工業大学
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川崎 雅司
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC):東北大金研
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川崎 雅司
産総研,強相関電子技術研究センター(CERC):東北大金研
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佐藤 弘
産総研,強相関電子技術研究センター(CERC)
-
十倉 好紀
産総研 CERC:東大工
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十倉 好紀
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC):東大工
-
赤穂 博司
産総研・強相電子技術研究センター(CERC)
-
宮台 賢一郎
産総研・強相電子技術研究センター(CERC)
-
何 金萍
ERATO
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高木 英典
産総研・強相関電子技術研究センター(CERC):東大新領域
-
宮台 賢一郎
産総研・強相電子技術研究センター(CERC):神奈川工大、
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金子 良夫
ERATO-SSS
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佐藤 弘
産総研・強相電子技術研究センター(CERC)
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小田川 明弘
産総研CERC:松下先端技術
著作論文
- 18aZB-1 三色酸化物超格子回折格子における光学的電気磁気効果の観測(強相関係・低次元物質・誘電体・磁性体,領域5,光物性)
- Mn酸化物でのトンネル磁気抵抗素子
- 23pZQ-9 (La,Sr)MnO_3/LaAlO_3/(La,Sr)CoO_3接合における負のトンネル磁気抵抗とスピン偏極トンネル分光(23pZQ Mn系2,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 13aWB-7 界面電荷変調層 (La, Sr) MnO_3/LaMnO_3 を強磁性電極としたスピントンネル接合(薄膜・人工格子磁性, 領域 3)
- 27aZP-9 ペロブスカイト型遷移金属酸化物界面の電界効果(領域7,領域8合同 : 分子デバイスI)(領域7)
- 27aZP-9 ペロブスカイト型遷移金属酸化物界面の電界効果(領域7,領域8合同 分子デバイスI)(領域8)
- 21pTP-4 SrTiO_3 への電界効果ドーピング : 低温金属相
- 21pXB-13 極性磁性体回折格子による光学的電気磁気効果の観測(領域5,領域1合同 フォトニック結晶,領域5(光物性))
- 27pZP-11 電極/Pr_Ca_MnO_3薄膜/電極構造におけるヒステリシス伝導特性(領域7,領域8合同 : 分子デバイスII)(領域7)
- 27pZP-11 電極/Pr_Ca_MnO_3薄膜/電極構造におけるヒステリシス伝導特性(領域7,領域8合同 分子デバイスII)(領域8)
- 28pXR-7 LaAlO_3バリアを用いた(La,Sr)MnO_3スピントンネル接合(スピン注入,トンネル接合,微小領域磁性)(領域3)
- 28aZG-2 SrTiO_3 への電界効果ドーピング : ウェットプロセス
- 28aWH-8 表面析出物のない下部電極を用いた La_Sr_xMnO_3 スピントンネル接合
- 全YBaCuO積層型接合を用いたSQUIDゲート
- 超伝導集積回路チップ用多チャンネル高速テスト冶具
- 21pXB-13 極性磁性体回折格子による光学的電気磁気効果の観測(領域5,領域1合同フォトニック結晶,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 高温超伝導体積層型SISジョセフソン接合と酸化物界面工学
- Arプラズマを用いたYBaCuO積層型接合の作製
- YBaCuO/PrBaCuO/YBaCuO積層型ジョセフソン接合の高品質化
- CeO_2層間絶縁膜を用いたビア及びクロスオーバーの作製
- YBaCuO積層型接合の高性能化
- YBaCuO積層型接合の異方性ジョセフソン効果と物性 (特集:高温超電導) -- (超電導素子の研究)
- YBaCuO積層型ジョセフソン接合 (特集:高温超電導) -- (超電導素子の研究)
- 高温超伝導ジョセフソン接合の進展
- c軸配向YBaCuO積層型ジョセフソン接合の作製
- YBaCuO積層型ジョセフソン接合の研究開発 (特集 超電導特集) -- (超電導素子化技術開発)
- 全(103)配向YBaCuO/PrBaCuO/YBaCuO積層型異方性ジョセフソン接合
- YBaCuO積層型ジョセフソン接合の特性に対するPrBaCuOバリア層の組成効果
- 27a-PS-38 YBa_2Cu_3O_薄膜の酸素脱離とX線吸収分光
- Ni(P)/Ta/TaN/Ta拡散バリアを用いた新しい高温はんだ接合技術
- 7aXD-9 電界効果ドーピングによる物性制御 II(Mn系・ダブルペロブスカイト(相制御・電界効果),領域8)
- 25pWA-12 遷移金属酸化物への電界効果ドーピングの試み(25pWA その他(光電子分光,薄膜,電界効果など),領域8(強相関系分野-高温超伝導,強相関f電子系など))