フッ素ドープ酸化亜鉛透明導電膜の低温合成(酸化物系導電セラミックス)(<特集>導電性セラミックス)
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概要
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- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1989-10-01
著者
-
笛木 和雄
東京理科大学理工学部
-
鯉沼 秀臣
東京工業大学工業材料研究所
-
永田 俊郎
川崎鉱業(株)
-
佐々木 基
東京大学工学部工業化学科
-
川崎 雅司
関東学院大学工学部機械工学科
-
高井 治
関東学院大学工学部機械工学科
-
水崎 純一郎
横浜国立大学環境科学研究センター
-
永田 俊郎
川鉄鉱業(株)技術研究所
-
高井 治
関東学院大 工
-
永田 俊郎
川鉄鉱業 技研
-
鯉沼 秀臣
東京工業大学
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