大気圧非平衡プラズマの生成とエッチングとアッシングへの応用

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概要

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大気圧下において、定常的に低温プラズマを発生可能な装置を開発した。開発した装置は接地電極を誘電体で被覆した容量結合型電極構造になっている。rf(13.56MHz)を励起源として使用しアルゴンまたは、ヘリウムをプラズマガスとして用いた。発生したブラズマは発光分光法、プローブ診断により、その特性を検討した。この結果、電子温度>励起温度>ガス温度関係にある非平衡状態のプラズマである。本装置を用いて、発生したプラズマ中に反応ガス(酸素、CF_4)を添加して大気開放系の、フォトレジストアッシング【greater than or equal】2.1μm, min)とSi(100)エッチング(1.5μm/min)に適用し、高い処理速度を実現した。
社団法人電子情報通信学会の論文
1994-10-20

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