大西 剛 | 東大物性研
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概要
関連著者
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大西 剛
東京工業大学応用セラミックス研究所
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大西 剛
米国ローレンスバークレー国立研究所
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大西 剛
東大物性研
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大西 剛
東京大学物性研究所
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大西 剛
Institute For Solid State Physics The University Of Tokyo
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鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
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Lippmaa Mikk
東大物性研
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Lippmaa Mikk
東大 物性研
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組頭 広志
Jst-crest:東大院工
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鯉沼 秀臣
東京大学新領域創成科学研究科
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川崎 雅司
東北大金研
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鯉沼 秀臣
東工大応セラ研
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尾嶋 正治
東大院工
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組頭 広志
東大院工
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小野 寛太
高エ研
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小野 寛太
総研大・高エ研
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和達 大樹
British Columbia大
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近松 彰
東大院理
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近松 彰
東大院工
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和達 大樹
東大院理
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橋本 龍司
東大院工
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藤森 淳
東大院理
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滝沢 優
立命館大総研
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藤森 淳
東大新領域
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小林 大介
東大工
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小林 大介
東大院工
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組頭 広志
東大工
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小野 寛太
高工研
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渋谷 圭介
東大物性研
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渋谷 圭介
理研CMRG
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石田 洋一
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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小野 寛太
高エネ研PF
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石田 洋一
東京大学工学部
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滝沢 優
東大院理
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鯉沼 秀臣
(独)科学技術振興機構 研究開発戦略センター
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橋本 信
東大理
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八木 創
愛媛大院・理工
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小林 正起
東大理
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浜田 典昭
東理大理工
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鯉沼 秀臣
東京工業大学工業材料研究所
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鯉沼 秀臣
東工大工材研
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中川 直之
東大物性研
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吉田 鉄平
東大新領域
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田中 清尚
東大理
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八木 創
東大理
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八木 創
愛媛大院理工:名大院理
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滝沢 優
東大理
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和達 大樹
東大理
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堀場 弘治
理研 SPring-8
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堀場 弘司
東大院工
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田中 清尚
大阪大理
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鯉沼 秀臣
物材機構
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近松 彰
東大工
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高橋 圭
理研cmrg
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三原 尚士
東工大応セラ研
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Triscone Jean-Marc
ジュネーブ大理
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鯉沼 秀臣
東京工業大学
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尾嶋 正治
東大工
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リプマー ミック
東京大学物性研究所
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谷内 敏之
東大物性研
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Lippmaa M.
東大物性研
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大友 明
東工大院工:東北大金研
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大友 明
東北大学金属材料研究所
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塚崎 敦
東北大金研
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腰原 伸也
東工大理
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岡林 潤
東大院工
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堀場 弘司
東大工:jst-crest
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大橋 智
東京工業大学応用セラミックス研究所
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吉本 護
東京工業大学応用セラミックス研究所
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川崎 雅司
東北大学金属材料研究所
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吉本 護
東工大応セラ研
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蛯原 建三
東工大理
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前田 辰郎
東工大応セラ研
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大西 剛
東工大応セラ研
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宮澤 貴士
理研
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小畠 邦規
理研
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吉良 満夫
理研
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豊田 大介
東大院工
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尾崎 正治
東大工
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神田 直樹
東京工業大学応用セラミクス研究所
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滝沢 優
東大新領域
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大久保 勇男
東大院工
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尾崎 正治
東大院工
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谷内 敏之
東大院工
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大久保 勇男
東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻
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塚崎 敦
東北大学金属材料研究所
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川崎 雅司
東大金研
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高橋 圭
東大新領域
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Giamarchi Thierry
ジュネーブ大理
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高橋 圭
ジュネーブ大理
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Jaccard Didier
ジュネーブ大理
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寺井 恒太
日本原子力研究所放射光科学研究センター
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和達 大樹
東大院工
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藤森 淳
東大院工
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Giamarchi Thierry
ジュネーブ大学
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前田 辰郎
東工大応セラ研:電総研
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吉良 満夫
東北大学大学院理学研究科
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吉本 譲
東京工業大学応用セラミックス研究所
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宮澤 貴士
Kast
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Giamarchi Thierry
ジュネーブ大
著作論文
- 酸化物エレクトロニクス
- ポリシランの電子状態と分子形態
- 19pYD-12 In-situ角度分解光電子分光によるLa_Sr_xMnO_3薄膜のバンド構造 : 組成依存性(領域5,領域8合同招待講演,領域5(光物性))
- 19pYD-10 In-situ光電子分光によるSrRuO_3薄膜電子状態の膜厚依存性(領域5,領域8合同招待講演,領域5(光物性))
- 27pWE-9 SrTiO_3/La_Sr_MnO_3ヘテロ界面のin-situ放射光光電子分光(Mn系2,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- レーザーMBE法による酸化物研究の新展開
- 24aZA-9 局所電界効果によるNbドープSrTiO_3二次元超伝導の物性制御(24aZA 超伝導,領域6(金属,超低温,超伝導・密度波))
- 20aPS-80 モット絶縁体LaTiO_3-バンド絶縁体SrTiO_3界面の光電子分光II(領域8ポスターセッション(低温),領域8(強相関系 : 高温超伝導,強相関f電子系など))
- 20aYH-6 NbドープSrTiO_3超伝導薄膜における局所電界効果((Mn系2(マルチフェロイック・薄膜・デバイス),領域8(強相関系 : 高温超伝導,強相関f電子系など))
- バッファー層による酸化物ヘテロエピタキシーの格子不整合エンジニアリング(Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開)
- 25aWE-8 モット絶縁体LaTiO_3-バンド絶縁体SrTiO_3界面の光電子分光(遷移金属酸化物(ペロブスカイト),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 12pRC-3 La_Sr_xMnO_3 薄膜の In-situ 角度分解光電子分光; 組成依存性(Mn 系_2 : スピン-電荷-軌道結合, 領域 8)
- 12pRC-1 膜厚をデジタル制御した La_Sr_MnO_3 薄膜の in-situ 光電子分光(Mn 系_2 : スピン-電荷-軌道結合, 領域 8)
- 12aXC-5 Laser MBE 法で作製した La_Sr_xMnO_3 薄膜の in-situ 共鳴光電子分光; 温度・組成依存性(光電子分光・逆光電子分光, 領域 5)
- 12aXC-4 Laser-MBE 法で作成した La_Sr_MnO_3 薄膜のバンド構造・フェルミ面; in-situ 角度分解光電子分光(光電子分光・逆光電子分光, 領域 5)
- 27pXC-5 La_Sr_yFeO_3/La_Sr_xMnO_3ヘテロ界面における電荷移動層の形成 : in-situ共鳴光電子分光(遷移金属酸化物光キャリア注入・分光))(領域8)
- 27pXC-4 Laser-MBE法で作製したLa_Sr_xMnO_3薄膜のin-situ角度分解光電子分光(遷移金属酸化物光キャリア注入・分光))(領域8)
- 21aWB-12 LaserMBE 法で作製した La_Sr_MnO_3 薄膜の in-situ光電子分光 : 温度依存性
- 22aPS-97 レーザー MBE 法による La_Sr_xFeO_3 エピタキシャル薄膜の作製とその物性評価
- 28pWH-7 La_Sr_MnO_3 薄膜上に成長した La_Sr_FeO_3 超薄膜の in-situ 共鳴光電子分光