大西 剛 | 米国ローレンスバークレー国立研究所

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概要

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• 米国ローレンスバークレー国立研究所の論文著者

関連著者

• 大西 剛

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 大西 剛

  米国ローレンスバークレー国立研究所

• 大西 剛

  東京大学物性研究所

• 大西 剛

  Institute For Solid State Physics The University Of Tokyo

• 大西 剛

  東大物性研

• 鯉沼 秀臣

  東京大学工学部工業化学科

• Lippmaa Mikk

  東大物性研

• Lippmaa Mikk

  東大 物性研

• 組頭 広志

  Jst-crest:東大院工

• 鯉沼 秀臣

  東京大学新領域創成科学研究科

• 川崎 雅司

  東北大金研

• 鯉沼 秀臣

  東工大応セラ研

• 尾嶋 正治

  東大院工

• 組頭 広志

  東大院工

• 小野 寛太

  高エ研

• 小野 寛太

  総研大・高エ研

• 和達 大樹

  British Columbia大

• 近松 彰

  東大院理

• 近松 彰

  東大院工

• 和達 大樹

  東大院理

• 橋本 龍司

  東大院工

• 藤森 淳

  東大院理

• 滝沢 優

  立命館大総研

• 藤森 淳

  東大新領域

• 小林 大介

  東大工

• 小林 大介

  東大院工

• 組頭 広志

  東大工

• 小野 寛太

  高工研

• 渋谷 圭介

  東大物性研

• 渋谷 圭介

  理研CMRG

• 石田 洋一

  東京工業大学 応用セラミックス研究所

• 小野 寛太

  高エネ研PF

• 石田 洋一

  東京大学工学部

• 吉本 護

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 滝沢 優

  東大院理

• 鯉沼 秀臣

  (独)科学技術振興機構 研究開発戦略センター

• 吉本 譲

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 橋本 信

  東大理

• 八木 創

  愛媛大院・理工

• 小林 正起

  東大理

• 浜田 典昭

  東理大理工

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学工業材料研究所

• 鯉沼 秀臣

  東工大工材研

• 中川 直之

  東大物性研

• 吉田 鉄平

  東大新領域

• 田中 清尚

  東大理

• 八木 創

  東大理

• 八木 創

  愛媛大院理工:名大院理

• 滝沢 優

  東大理

• 和達 大樹

  東大理

• 堀場 弘治

  理研 SPring-8

• 堀場 弘司

  東大院工

• 田中 清尚

  大阪大理

• 鯉沼 秀臣

  物材機構

• 近松 彰

  東大工

• 高橋 圭

  理研cmrg

• 三原 尚士

  東工大応セラ研

• Triscone Jean-Marc

  ジュネーブ大理

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学

• 尾嶋 正治

  東大工

• 羽田 肇

  National Institute for Materials Science

• 羽田 肇

  無機材質研究所

• リプマー ミック

  東京大学物性研究所

• 福家 俊郎

  静岡大学工学部

• 谷内 敏之

  東大物性研

• Lippmaa M.

  東大物性研

• 大友 明

  東工大院工:東北大金研

• 大友 明

  東北大学金属材料研究所

• 塚崎 敦

  東北大金研

• 腰原 伸也

  東工大理

• 岡林 潤

  東大院工

• 堀場 弘司

  東大工:jst-crest

• 伊藤 孝浩

  静岡大学工学部

• 角谷 正友

  静岡大学工学部

• 大橋 智

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 大垣 武

  Faculty Of Industrial Science And Technology Tokyo University Of Science

• 川崎 雅司

  東北大学金属材料研究所

• 吉本 護

  東工大応セラ研

• 高倉 雅博

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 菱谷 佳子

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 古澤 光康

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 水野 敬介

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 宮原 崇文

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 蛯原 建三

  東工大理

• 前田 辰郎

  東工大応セラ研

• 大西 剛

  東工大応セラ研

• 宮澤 貴士

  理研

• 小畠 邦規

  理研

• 吉良 満夫

  理研

• 豊田 大介

  東大院工

• 尾崎 正治

  東大工

• 神田 直樹

  東京工業大学応用セラミクス研究所

• 滝沢 優

  東大新領域

• 大久保 勇男

  東大院工

• 尾崎 正治

  東大院工

• 谷内 敏之

  東大院工

• 大久保 勇男

  東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻

• 羽田 肇

  National Institute For Materials Science (nims)

• 大垣 武

  National Institute for Materials Science (NIMS)

• 大橋 直樹

  National Institute for Materials Science (NIMS)

• 大西 剛

  Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo

• リップマー ミック

  Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo

• 安盛 敦雄

  Faculty of Industrial Science and Technology, Tokyo University of Science

• 大橋 直樹

  九州大学大学院量子プロセス理工学

• リップマー ミック

  Institute For Solid State Physics The University Of Tokyo

• 大橋 直樹

  九州大学大学院量子プロセス理工学:物質材料研究機構

• 羽田 肇

  九州大学大学院量子プロセス理工学:物質材料研究機構

• 塚崎 敦

  東北大学金属材料研究所

• 川崎 雅司

  東大金研

• 高橋 圭

  東大新領域

• Giamarchi Thierry

  ジュネーブ大理

• 高橋 圭

  ジュネーブ大理

• Jaccard Didier

  ジュネーブ大理

• Lippmaa Mikk

  東京大学物性研究所

• 伊藤 孝浩

  静岡大学工学部電気・電子工学科

• 寺井 恒太

  日本原子力研究所放射光科学研究センター

• 安盛 敦雄

  Faculty Of Industrial Science And Technology Tokyo University Of Science

• 和達 大樹

  東大院工

• 藤森 淳

  東大院工

• Giamarchi Thierry

  ジュネーブ大学

• 前田 辰郎

  東工大応セラ研:電総研

• 角谷 正友

  「応用物理」編集委員会

• 吉良 満夫

  東北大学大学院理学研究科

• 角谷 正友

  静岡大学工学部:科学技術振興機構

• 宮澤 貴士

  Kast

• 吉本 護

  東京工業大学

• Giamarchi Thierry

  ジュネーブ大

• Mikk LIPPMAA

  東京大学物性研究所

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著作論文

• 酸化物エレクトロニクス
• 金属酸化物超平坦表面のナノ構造評価と応用
• ZnOエピタキシャル薄膜のc軸極性の同定 (特集 多様な電子機能をもつ酸化亜鉛の新展開)
• ポリシランの電子状態と分子形態
• 19pYD-12 In-situ角度分解光電子分光によるLa_Sr_xMnO_3薄膜のバンド構造 : 組成依存性(領域5,領域8合同招待講演,領域5(光物性))
• 19pYD-10 In-situ光電子分光によるSrRuO_3薄膜電子状態の膜厚依存性(領域5,領域8合同招待講演,領域5(光物性))
• 27pWE-9 SrTiO_3/La_Sr_MnO_3ヘテロ界面のin-situ放射光光電子分光(Mn系2,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
• 酸化亜鉛のc面に成長させた窒化インヂウム薄膜の結晶性と極性
• 同軸型直衝突イオン散乱分光法による窒化物半導体の極性評価-GaN薄膜堆積プロセスと成長方位との相関-
• レーザーMBE法による酸化物研究の新展開
• 24aZA-9 局所電界効果によるNbドープSrTiO_3二次元超伝導の物性制御(24aZA 超伝導,領域6(金属,超低温,超伝導・密度波))
• 20aPS-80 モット絶縁体LaTiO_3-バンド絶縁体SrTiO_3界面の光電子分光II(領域8ポスターセッション(低温),領域8(強相関系 : 高温超伝導,強相関f電子系など))
• 20aYH-6 NbドープSrTiO_3超伝導薄膜における局所電界効果((Mn系2(マルチフェロイック・薄膜・デバイス),領域8(強相関系 : 高温超伝導,強相関f電子系など))
• バッファー層による酸化物ヘテロエピタキシーの格子不整合エンジニアリング(Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開)
• 25aWE-8 モット絶縁体LaTiO_3-バンド絶縁体SrTiO_3界面の光電子分光(遷移金属酸化物(ペロブスカイト),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
• 12pRC-3 La_Sr_xMnO_3 薄膜の In-situ 角度分解光電子分光; 組成依存性(Mn 系_2 : スピン-電荷-軌道結合, 領域 8)
• 12pRC-1 膜厚をデジタル制御した La_Sr_MnO_3 薄膜の in-situ 光電子分光(Mn 系_2 : スピン-電荷-軌道結合, 領域 8)
• 12aXC-5 Laser MBE 法で作製した La_Sr_xMnO_3 薄膜の in-situ 共鳴光電子分光; 温度・組成依存性(光電子分光・逆光電子分光, 領域 5)
• 12aXC-4 Laser-MBE 法で作成した La_Sr_MnO_3 薄膜のバンド構造・フェルミ面; in-situ 角度分解光電子分光(光電子分光・逆光電子分光, 領域 5)
• 27pXC-5 La_Sr_yFeO_3/La_Sr_xMnO_3ヘテロ界面における電荷移動層の形成 : in-situ共鳴光電子分光(遷移金属酸化物光キャリア注入・分光))(領域8)
• 27pXC-4 Laser-MBE法で作製したLa_Sr_xMnO_3薄膜のin-situ角度分解光電子分光(遷移金属酸化物光キャリア注入・分光))(領域8)
• 21aWB-12 LaserMBE 法で作製した La_Sr_MnO_3 薄膜の in-situ光電子分光 : 温度依存性
• 22aPS-97 レーザー MBE 法による La_Sr_xFeO_3 エピタキシャル薄膜の作製とその物性評価
• 28pWH-7 La_Sr_MnO_3 薄膜上に成長した La_Sr_FeO_3 超薄膜の in-situ 共鳴光電子分光
• 酸化物薄膜成長中のRHEED強度振動

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