Dislocation Formation in Czochralski Si Crystal Growth Using an Annealed Heavily B-Doped Si Seed

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概要

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• Japan Society of Applied Physicsの論文
• 2003-11-01

著者

• Huang X

  Nanjing Univ. Nanjing Chn

• 干川 圭吾

  信州大学大学院工学系研究科電気電子工学専攻

• HOSHIKAWA Keigo

  Faculty of Education, Shinshu University

• TAISHI Toshinori

  Faculty of Education, Shinshu University

• HUANG Xinming

  Silicon Technology Corporation

• YU Xuegong

  Faculty of Education, Shinshu University

• YANG Deren

  State Key Lab of Si Materials, Zhejiang University

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