手塚 勉 | 半導体MIRAI-ASET
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概要
関連著者
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手塚 勉
半導体MIRAI-ASET
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高木 信一
東京大学大学院 工学系研究科
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杉山 直治
半導体MIRAI-ASET
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杉山 直治
MIRAI-ASET
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高木 信一
半導体miraiプロジェクト 超先端電子技術開発機構(aset)
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高木 信一
東大 大学院工学系研究科
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中払 周
半導体MIRAI-ASET
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水野 智久
MIRAI-AIST
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沼田 敏典
半導体miraiプロジェクト 超先端電子技術開発機構(aset)
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高木 信一
半導体MIRAIプロジェクト-ナノ電子デバイス研究センター
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入沢 寿史
半導体MIRAI-ASET
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守山 佳彦
半導体MIRAI-ASET
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高木 信一
東京大学
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臼田 宏治
半導体MIRAI-ASET
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手塚 勉
MIRAI-ASET
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高木 信一
MIRAI-産総研ASRC
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沼田 敏典
半導体MIRAIプロジェクト超先端電子技術開発機構(ASET)
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平下 紀夫
半導体MIRAI-ASET
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中払 周
MIRAI-ASET
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古賀 淳二
東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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古賀 淳二
東芝研究開発センターlsi基盤技術研究所
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古賀 淳二
東芝
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守山 佳彦
MIRAI-ASET
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豊田 英二
東芝セラミックス株式会社
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水野 智久
半導体MIRAIプロジェクト
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古賀 淳二
半導体MIRAI-ASET
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前田 辰郎
半導体MIRAI産業技術総合研究所次世代半導体研究センター
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田邊 顕人
半導体MIRAI-ASET
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前田 辰郎
産業技術総合研究所
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平下 紀夫
MIRAI-ASET
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沼田 敏典
MIRAI-ASET
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宮村 佳児
コマツ電子金属
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前田 辰郎
MIRAI-AIST
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入沢 寿史
MIRAI-ASET
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臼田 宏治
MIRAI-ASET
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田岡 紀之
半導体MIRAIプロジェクト-ナノ電子デバイス研究センター
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山下 良美
Mirai-aset
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田岡 紀之
半導体miraiプロジェクト 産業技術総合研究所次世代半導体研究センター(mirai-aist)
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山本 豊二
半導体MIRAIプロジェクト, 技術研究組合 超先端電子技術開発機構(MIRAI-ASET)
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山下 良美
半導体MIRAI-ASET
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木曽 修
半導体MIRAI-産総研ASRC
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高木 信一
東大院工
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木曽 修
MIRAI-産総研ASRC
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高木 信一
Toshiba Ceramics
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古賀 淳二
MIRAI-ASET
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田邊 顕人
MIRAI-ASET
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沼田 典則
半導体MIRAIプロジェクト
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古賀 淳二
東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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山本 豊二
半導体miraiプロジェクト 技術研究組合 超先端電子技術開発機構(mirai-aset)
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入沢 寿史
産業技術総合研究所グリーンナノエレクトロニクスセンター
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入沢 寿史
産業技術総合研究所 グリーンナノエレクトロニクスセンター
著作論文
- SSON構造から作製したGAA型ひずみチャネルSi-MOSFETの電気特性とNBDによるひずみの評価
- 高移動度チャネルを有するひずみ Si-on-insulator/ ひずみ SiGe-on-insulator デュアルチャネルCMOSの作製と電気特性
- 先端CMOSのための高移動度デバイス・基板技術,AWAD2006)
- 先端CMOSのための高移動度デバイス・基板技術
- 一軸歪みSGOIチャネルを有する高性能マルチゲートpMOSFETs(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
- 高性能・微細ひずみSOI-MOSFET
- シリコン・オン・インシュレーター(SOI)基板構造の歪局ひずみ評価
- 高性能・部分空乏型および完全空乏型ひずみSOI-MOSFET(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- 高性能・部分空乏型および完全空乏型ひずみSOI-MOSFET
- ヘテロソース構造MOSFETにおけるチャネルへの高速電子注入(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
- SiGe on Insulator構造形成技術(IV族系半導体結晶・混晶の新たなる展開)
- ひずみSOI-CMOS素子 : Si格子定数の変調技術を用いた高速SOI素子技術
- ひずみSOI MOSFETのチャネル構造設計と作製技術(IEDM特集:先端CMOSデバイス・プロセス技術)
- (110)面高性能ひずみSOI-CMOS素子技術(VLSI回路, デバイス技術(高速, 低電圧, 低電力))
- 高性能ひずみSOI-CMOS素子技術 : キャリア移動度劣化機構と素子設計
- 微細CMOSスケーリングにおけるチャネル高移動度化の重要性 : Si/SiGe系ヘテロ構造による高移動度MOSFET
- 先端CMOSのための高移動度デバイス・基板技術
- ヘテロソース構造MOSFETにおけるチャネルへの高速電子注入(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
- (110)面高性能ひずみSOI-CMOS素子技術(VLSI回路, デバイス技術(高速, 低電圧, 低電力))
- 微細CMOSスケーリングにおけるチャネル高移動度化の重要性 : Si/SiGe系ヘテロ構造による高移動度MOSFET
- 微細InGaAs MOSFETに適用可能な極薄Ni-InGaAs合金コンタクトの形成とその熱的安定性 (シリコン材料・デバイス)
- 微細InGaAs MOSFETに適用可能な極薄Ni-InGaAs合金コンタクトの形成とその熱的安定性(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)