507 電気・化学・機械複合ナノ加工に関する研究(OS8-(2) 精密微細加工と評価,オーガナイズドセッション)
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概要
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The nanoimprint lithography is one of the newly developed techniques to produce the nano/micro patterns easier and more economical than the MEMS technique. Under such circumstances, simpler method for teh production of nanoimprint molds is explored. This study aims to produce nano-patterns by using the combination of the local anodic oxidation (electrical method), chemical etching (chemical method) and scratching (mechanical method) to support such a demand. In this report, several experiments for generating nano-patterns were performed by combining each two processing methods.
- 2009-08-25
著者
-
周 立波
茨城大学工学部
-
清水 淳
茨城大学工学部
-
清水 淳
茨城大工
-
周 立波
茨城大工
-
山本 武幸
茨城大工
-
山本 武幸
茨城大学工学部
-
大曽根 渡
茨城大院
-
Zhou Libo
Department Of Intelligent System Engineering Ibaraki University
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