C19 電気・機械的手法によるナノ構造の創成に関する研究(OS-12 ナノ加工と表面機能(4))
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概要
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The nanoimprint lithography is one of the newly developed techniques to produce the nano/micro patterns easier than the MEMS process. Under such circumstances, simpler method for the production of nanoimprint molds is explored. This study aims to produce nano-patterns by using the combination of local anodic oxidation (electrical method) and scratching (mechanical method) to support such a demand. In this report, influences of local anodic oxidation conditions and scratching conditions for nano-patterns formation were evaluated. Formation of nano-patterns by combination of local anodic oxidation and scratching was also performed.
- 2008-11-21
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