超高輝度フィールドエミッションディスプレイの試作(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
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概要
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フィールドエミッションディスプレイ(FED)は従来パッシブ駆動されているが,各画素にメモリー機能を付加することで飛躍的に輝度を向上させることが可能となる。他のディスプレイでは実現できないような数万cd/m^2も原理的には可能である.本研究では,このような超高輝度FEDをめざして,各画素にTFTを3ヶ有するFEDを試作した.試作したデバイスは電子を放出するフィールドエミッタアレイ(FEA)と,FEAから放出される電流を正確に制御するTFTと,メモリーを構成するキャパシタおよび書き込み制御TFT,さらに,発光期間の制御を行うTFTを同一基板上に集積したものである.今回は,基本的な動作(マトリクス動作)と発光期間を制御できることを確認した結果について報告する.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-07-28
著者
-
中村 和仁
双葉電子工業株式会社
-
谷口 昌照
双葉電子工業株式会社
-
長尾 昌善
産業技術総合研究所
-
吉田 知也
産業技術総合研究所
-
金丸 正剛
産業技術総合研究所
-
丸島 吉久
双葉電子工業
-
伊藤 茂生
双葉電子工業
-
伊藤 茂生
Futaba Corporation
-
金丸 正剛
電総研
-
吉田 知也
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
金丸 正剛
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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