高収束電子ビームを目指した静電レンズ一体型フィールドエミッタの作製(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
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概要
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我々はすでに4段から5段のゲート電極を有するマルチゲートFEAの作製方法を開発している。このマルチゲートFEAを使った本当の意味でのマイクロカラムSEM(レンズの大きさがμmオーダー)を提案した。しかしながら、マイクロカラムSEMを実現するためには、FEAに集積する電極の数が最低でも7段以上必要で、これまでの作製方法の延長では困難である。本研究では、7段以上の電極を集積できるようにマルチゲートFEAの作製方法をいくつか見直し、7段ゲートFEAを作製したので報告する。
- 2010-10-18
著者
-
長尾 昌善
産業技術総合研究所
-
吉田 知也
産業技術総合研究所
-
金丸 正剛
産業技術総合研究所
-
根尾 陽一郎
静岡大学電子工学研究所
-
三村 秀典
静岡大学電子工学研究所
-
根尾 陽一郎
静岡大学・電子工学研究所
-
三村 秀典
静岡大学・電子工学研究所
-
三村 秀典
静岡大学大学院電子科学研究科
-
三村 秀典
The Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
根尾 陽一郎
静岡大学 電子工学研究所
-
金丸 正剛
電総研
-
西 孝
産業技術総合研究所
-
神田 信子
産業技術総合研究所
-
清水 貴思
産業技術総合研究所
-
西 孝
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
清水 貴思
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
吉田 知也
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
金丸 正剛
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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